发明授权
- 专利标题： Plasma treatment equipment and impedance measurement tool
- 专利标题（中）： 等离子处理设备和阻抗测量工具
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申请号： EP03023423.1申请日： 1999-11-25
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公开(公告)号： EP1406292B1公开(公告)日： 2005-04-13
- 发明人: Nakano, Akira , Kim, Sung, Chul , Fukuda, Koichi , Kasama, Yasuhiko , Ohmi, Tadahiro , Ono, Shoichi
- 申请人： ALPS ELECTRIC CO., LTD. , Ohmi, Tadahiro
- 申请人地址： 1-7 Yukigaya Otsuka-cho Ota-ku Tokyo 145 JP
- 专利权人： ALPS ELECTRIC CO., LTD.,Ohmi, Tadahiro
- 当前专利权人： ALPS ELECTRIC CO., LTD.,Ohmi, Tadahiro
- 当前专利权人地址： 1-7 Yukigaya Otsuka-cho Ota-ku Tokyo 145 JP
- 代理机构： Kensett, John Hinton
- 优先权： JP34080698 19981130
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; G01R27/22
公开/授权文献
- EP1406292A3 Plasma treatment equipment and impedance measurement tool 公开/授权日：2004-06-09
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