PROCÉDÉ D'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE

发明公开

EP3238232A1 PROCÉDÉ D'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE 审中-公开

标题翻译： PROCÉDÉD'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE

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专利标题： PROCÉDÉ D'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE
专利标题（英）： Method for obtaining patterns in a layer
专利标题（中）： PROCÉDÉD'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE
申请号： EP15820157.4

申请日： 2015-12-22
公开(公告)号： EP3238232A1

公开(公告)日： 2017-11-01
发明人: LANDIS, Stéphan , POSSEME, Nicolas , NOURI, Lamia
申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
申请人地址： 25, Rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" 75015 Paris FR
专利权人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
当前专利权人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
当前专利权人地址： 25, Rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" 75015 Paris FR
代理机构： Hautier, Nicolas
优先权： FR1463145 20141222
国际公布： WO2016102609 20160630
主分类号： H01L21/306
IPC分类号： H01L21/306 ; H01L21/3065 ; H01L21/308 ; H01L21/311 ; H01L31/0236 ; H01L33/00 ; G03F7/00 ; B81C1/00

PROCÉDÉ D'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE

摘要：

The invention relates, in particular, to a method for producing subsequent patterns in an underlying layer (120), the method comprising at least a step of producing previous patterns in a printable layer (110) overlying the underlying layer (120), the production of the previous patterns comprising the nanoimprinting of the printable layer (110) and leaving in place a continuous layer formed by the printable layer (110) and covering the underlying layer (120), characterised in that it comprises the following step: at least one step of modifying the underlying layer (120) by ion implantation (421) in the underlying layer (120), the implantation (421) being carried out through the printable layer (110) comprising the subsequent patterns, the implantation (421) parameters being chosen so as to form, in the underlying layer (120), implanted areas (122) and non-implanted areas, the non-implanted areas defining the subsequent patterns and having a geometry that is dependent on the previous patterns.

摘要（中）：

本发明尤其涉及一种用于在底层（120）中产生随后的图案的方法，所述方法至少包括在覆盖下层（120）的可印刷层（110）中产生先前图案的步骤，所述产品所述先前图案包括可印刷层（110）的纳米压印并留下由可印刷层（110）形成并覆盖下层（120）的连续层，其特征在于其包括以下步骤：至少一个通过在所述下层（120）中的离子注入（421）来修改所述下层（120）的步骤，所述注入（421）通过包括所述后续图案的可印刷层（110）来执行，所述注入以便在下层（120）中形成注入区域（122）和非注入区域，非注入区域限定后续图案并且具有依赖于前面的图案的几何形状 tterns。

公开/授权文献

EP3238232B1 PROCÉDÉ D'OBTENTION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE 公开/授权日：2021-12-15

信息查询

Global Dossier Espacenet

IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02	.半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04	..至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18	...器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/30	....用H01L21/20至H01L21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L21/28）
H01L21/302	.....改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割
H01L21/306	......化学或电处理，例如电解腐蚀（形成绝缘层的入H01L21/31；绝缘层的后处理入H01L21/3105）