发明专利
- 专利标题： レジスト組成物及びパターン形成方法
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申请号： JP2019054552申请日： 2019-03-22
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公开(公告)号： JP2020154210A公开(公告)日： 2020-09-24
- 发明人: 谷口 良輔 , 渡邉 聡 , 藤原 敬之 , 井上 直也
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 代理商 好宮 幹夫; 小林 俊弘
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/20 ; C08F32/08 ; C08F20/20 ; C08F12/22 ; G03F7/004
摘要：
【課題】高感度かつLWR、CDUが小さく形状が良好なパターンを与える化学増幅ネガ型レジスト組成物、及び該組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】アニオン部が隣接部にF系原子を有し、末端部に置換基を有するベンゼン環がエステル結合で結合されているスルホニウム又はヨードニウム塩系酸発生剤、及び樹脂側鎖末端に芳香環を有する特定構造のアクリル系ベースポリマーを含有するものであることを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。 【選択図】なし
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