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公开(公告)号：JP2018035096A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2016169793
申请日：2016-08-31
申请人： 信越化学工業株式会社
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/02 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/2053 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要： 【課題】各種リソグラフィーにおいて、LWR、解像性に優れたスルホニウム化合物、該スルホニウム化合物を光酸発生剤として含むレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 【解決手段】例えば下記反応式中に示されるスルホニウム化合物Aで代表されるスルホニウム化合物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6589795B2
公开(公告)日：2019-10-16
申请号：JP2016188374
申请日：2016-09-27
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： C07D409/10 , C07D335/02 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/20 , C08F220/10 , C07D333/46
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公开(公告)号：JP2018062503A
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：JP2017172737
申请日：2017-09-08
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/20 , C09K3/00 , C07C381/12
CPC分类号： C07C381/12 , C07C317/04 , C07C317/28 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , C08K5/36 , C08L33/08 , C08L33/10 , C08L33/16 , C09D133/06 , G01R33/46 , G03F7/0045 , G03F7/033 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/26 , G03F7/322 , H01L21/0274
摘要： 【課題】遠紫外線リソグラフィー及びEUVリソグラフィーにおいて、解像性、LWR、MEF及びCDUに優れたレジスト膜を与えるレジスト組成物、これに用いるスルホニウム化合物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるスルホニウム化合物。 (式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、炭素数3〜20の分岐状又は環状の1価炭化水素基である。p及びqは、それぞれ独立に、0〜5の整数である。rは、0〜4の整数である。) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6295992B2
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：JP2015080612
申请日：2015-04-10
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： C08F20/26 , C07D307/94 , C07D307/33
CPC分类号： C07D407/12 , C07D307/20 , C07D307/32 , C07D307/33 , C07D307/94 , C07D493/10
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公开(公告)号：JP2016210761A
公开(公告)日：2016-12-15
申请号：JP2016065649
申请日：2016-03-29
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C313/36 , C09K3/00 , C08F220/28 , C08F220/18 , C07D307/00 , C07J9/00 , G03F7/20 , C07C311/48
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C307/02 , C07C321/28 , C07D303/16 , C07D305/06 , C07D305/08 , C07D307/20 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D309/10 , C07D333/46 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07J41/0055 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , C07C2101/02 , C07C2101/04 , C07C2101/08 , C07C2101/14 , C07C2102/42 , C07C2103/68 , C07C2103/74 , C07C2103/86 , C07J31/006
摘要： 【課題】ArFエキシマレーザー光、EB、EUV等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、酸拡散が小さく、感度、MEFのバランスに優れ、また矩形性にも優れ、更には相溶性に優れディフェクトが発現しにくい化学増幅型レジスト組成物に使用される光酸発生剤等を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるオニウム塩。 【選択図】なし
摘要翻译： 甲ArF受激准分子激光，EB，在光刻高能光束作为EUV的光源，诸如小酸扩散，优异的灵敏度，使MEF的平衡，也具有优异的矩形性，相容性更优异的 缺陷提供几乎不表达的化学放大抗蚀剂组合物光酸产生剂时，和类似物。 由下式表示的鎓盐（1）。 系统技术领域
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公开(公告)号：JP2015214634A
公开(公告)日：2015-12-03
申请号：JP2014097347
申请日：2014-05-09
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027 , C07D307/83 , C07D307/935 , C07D493/04 , C07D495/04 , C08F20/28 , C08F220/28
CPC分类号： G03F7/0397 , C07D307/83 , C07D307/935 , C07D493/04 , C07D495/04 , C08F2/44 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/36 , C08F224/00 , C08F228/02 , C08F228/06 , C08F24/00 , C08F28/06 , C08L33/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/325 , C08F2220/283 , C08F2220/303 , C08F2220/365
摘要： 【課題】保存安定性に優れ、又従来のアルカリ現像によるポジ型のパターン形成のみならず、有機溶剤現像におけるポジネガ反転の画像形成において、高溶解コントラスト、酸拡散制御、低ラフネスなどの諸特性が優れるフォトレジストを提供する。 【解決手段】一般式(1)で示される単量体を含む重合体を使用する。 【選択図】図1
摘要翻译： 要解决的问题：为了提供一种具有优异的储存稳定性并且具有各种优异性能的光致抗蚀剂，例如高溶解度对比度，可控酸扩散和低粗糙度，不仅在现有技术中具有碱性显影的阳极图案形成， 有机溶剂开发的负反转图像形成。解决方案：本发明使用包含由通式（1）表示的单体的聚合物。
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公开(公告)号：JP5715014B2
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2011198478
申请日：2011-09-12
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/0045 , G03F7/0046
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公开(公告)号：JP6780602B2
公开(公告)日：2020-11-04
申请号：JP2017148008
申请日：2017-07-31
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027 , C08F220/28 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D295/088 , G03F7/038
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公开(公告)号：JP2020154210A
公开(公告)日：2020-09-24
申请号：JP2019054552
申请日：2019-03-22
申请人： 信越化学工業株式会社
摘要： 【課題】高感度かつLWR、CDUが小さく形状が良好なパターンを与える化学増幅ネガ型レジスト組成物、及び該組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】アニオン部が隣接部にF系原子を有し、末端部に置換基を有するベンゼン環がエステル結合で結合されているスルホニウム又はヨードニウム塩系酸発生剤、及び樹脂側鎖末端に芳香環を有する特定構造のアクリル系ベースポリマーを含有するものであることを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。 【選択図】なし
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