Invention Patent
- Patent Title: 剥離基板製造方法
- Patent Title (English): METHOD FOR MANUFACTURING PEELING SUBSTRATE
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Application No.: JP2020174574Application Date: 2020-10-16
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Publication No.: JP2021015987APublication Date: 2021-02-12
- Inventor: 池野 順一 , 山田 洋平 , 鈴木 秀樹 , 松尾 利香
- Applicant: 国立大学法人埼玉大学 , 信越ポリマー株式会社
- Applicant Address: 埼玉県さいたま市桜区下大久保255
- Assignee: 国立大学法人埼玉大学,信越ポリマー株式会社
- Current Assignee: 国立大学法人埼玉大学,信越ポリマー株式会社
- Current Assignee Address: 埼玉県さいたま市桜区下大久保255
- Agent 三好 秀和; 高橋 俊一; 伊藤 正和; 高松 俊雄
- Main IPC: B23K26/00
- IPC: B23K26/00 ; B23K26/53 ; B23K26/067 ; C30B33/04 ; C30B33/10 ; C30B29/36 ; H01L21/304
Abstract:
【課題】結晶材料でのクラックの発生を抑制し、安定して加工層を形成して剥離することができる剥離基板製造方法を提供することを課題とする。 【解決手段】剥離基板製造方法は、基板10の表面から所定の深さにレーザ光を集光するレーザ集光ステップ、および、レーザ集光部160を基板10に対して相対的に移動させて位置決めする位置決めステップ、を有して基板10に加工層を形成する。また、加工層が形成された基板10を加工層にて剥離して剥離基板を作成する。レーザ集光ステップは、レーザ光を複数の分岐レーザ光に分岐させる回折光学素子170を用いて分岐レーザ光の少なくとも1本を他の分岐レーザ光に比べて強度が異なるように分岐させるレーザ光調整ステップを含み、複数の分岐レーザ光のうち、相対的に強度が高い分岐レーザ光により加工層を伸長させて基板10を加工するとともに、相対的に強度が低い分岐レーザ光により加工層の伸長を抑制する。 【選択図】図1
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