Invention Patent
- Patent Title: フォトレジスト組成物
- Patent Title (English): Photoresist composition
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Application No.: JP2014506104Application Date: 2013-02-27
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Publication No.: JP6052283B2Publication Date: 2016-12-27
- Inventor: 生井 準人 , 池田 憲彦 , 川上 峰規
- Applicant: JSR株式会社
- Applicant Address: 東京都港区東新橋一丁目9番2号
- Assignee: JSR株式会社
- Current Assignee: JSR株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区東新橋一丁目9番2号
- Agent 天野 一規
- Priority: JP2012062856 2012-03-19 JP2012180604 2012-08-16
- International Application: JP2013055258 JP 2013-02-27
- International Announcement: WO2013140969 JP 2013-09-26
- Main IPC: C07C309/17
- IPC: C07C309/17 ; C07C303/20 ; C09K3/00 ; C07D207/416 ; C07D295/18 ; C07D493/10 ; C07D307/94 ; C07D311/74 ; C07D317/24 ; C07D327/04 ; C07D307/33 ; C07D307/64 ; C07D211/46 ; C07D237/04 ; C07D237/16 ; C07D319/06 ; C07D321/12 ; C07D307/93 ; C07D313/06 ; G03F7/039 ; G03F7/004
Public/Granted literature
- JPWO2013140969A1 フォトレジスト組成物、化合物及びその製造方法 Public/Granted day:2015-08-03
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