发明申请
US20070096103A1 SEMICONDUCTOR DEVICE, ANNEALING METHOD, ANNEALING APPARATUS AND DISPLAY APPARATUS
审中-公开
半导体器件，退火方法，退火设备和显示器
- 专利标题： SEMICONDUCTOR DEVICE, ANNEALING METHOD, ANNEALING APPARATUS AND DISPLAY APPARATUS
- 专利标题（中）： 半导体器件，退火方法，退火设备和显示器
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申请号： US11612768申请日： 2006-12-19
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公开(公告)号： US20070096103A1公开(公告)日： 2007-05-03
- 发明人: Masayuki Jyumonji , Masakiyo Matsumura , Yoshinobu Kimura , Mikihiko Nishitani , Masato Hiramatsu , Yukio Taniguchi , Fumiki Nakano , Hiroyuki Ogawa
- 申请人： Masayuki Jyumonji , Masakiyo Matsumura , Yoshinobu Kimura , Mikihiko Nishitani , Masato Hiramatsu , Yukio Taniguchi , Fumiki Nakano , Hiroyuki Ogawa
- 申请人地址： JP Yokohama-shi
- 专利权人： Advanced LCD Technologies Dev. Ctr. Co., Ltd
- 当前专利权人： Advanced LCD Technologies Dev. Ctr. Co., Ltd
- 当前专利权人地址： JP Yokohama-shi
- 优先权： JP2002-279608 20020925; JP2003-110861 20030415
- 主分类号： H01L29/04
- IPC分类号： H01L29/04
摘要：
The semiconductor device according to the present invention has a semiconductor layer having not smaller than two types of crystal grains different in size within a semiconductor circuit on a same substrate.
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