发明申请
- 专利标题： Methods for Providing a Confined Liquid for Immersion Lithography
- 专利标题（中）： 提供浸没液相色谱液体的方法
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申请号： US12055219申请日： 2008-03-25
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公开(公告)号： US20080171292A1公开(公告)日： 2008-07-17
- 发明人: David Hemker , Fred C. Redeker , John Boyd , John M. de Larios , Michael Ravkin , Mikhail Korolik
- 申请人： David Hemker , Fred C. Redeker , John Boyd , John M. de Larios , Michael Ravkin , Mikhail Korolik
- 申请人地址： US CA Fremont
- 专利权人： Lam Research Corp.
- 当前专利权人： Lam Research Corp.
- 当前专利权人地址： US CA Fremont
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00
摘要：
A method for processing a substrate is provided which includes generating a meniscus on the surface of the substrate and applying photolithography light through the meniscus to enable photolithography processing of a surface of the substrate.
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