- 专利标题： RESIST COMPOSITION
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申请号： US17003414申请日： 2020-08-26
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公开(公告)号： US20210255544A1公开(公告)日： 2021-08-19
- 发明人: Yechan KIM , Suk Koo HONG , Su Min KIM , Ju-Young KIM , Jinjoo KIM , Hyunwoo KIM , Juhyeon PARK , Hyunji SONG , Songse YI
- 申请人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 申请人地址： KR Suwon-si
- 专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-si
- 优先权： KR10-2020-0014452 20200206
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/039
摘要：
A resist composition including a polymer; a photoacid generator; and a material represented by Formula 1:
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