发明授权
US4564575A Tailoring of novolak and diazoquinone positive resists by acylation of
novolak
失效
通过酚醛清漆的酰化调节酚醛清漆和重氮醌正抗蚀剂
- 专利标题： Tailoring of novolak and diazoquinone positive resists by acylation of novolak
- 专利标题（中）： 通过酚醛清漆的酰化调节酚醛清漆和重氮醌正抗蚀剂
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申请号： US560781申请日： 1984-01-30
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公开(公告)号： US4564575A公开(公告)日： 1986-01-14
- 发明人: Stanley E. Perreault , Robert L. Wood
- 申请人： Stanley E. Perreault , Robert L. Wood
- 申请人地址： NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： NY Armonk
- 主分类号： G03C1/72
- IPC分类号： G03C1/72 ; C08G8/00 ; C08G8/32 ; G03C1/52 ; G03F7/022 ; G03F7/023 ; H01L21/027 ; G03C1/60 ; G03C1/76 ; G03F7/26
摘要：
Reduction of the alkaline developer solubility of novolak-diazoquinone positive resists by acylation of phenolic hydroxyl groups of the novolak resin.
公开/授权文献
- US5712489A Web flutter detection 公开/授权日：1998-01-27
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