发明授权
- 专利标题： Radiation-sensitive resin composition
- 专利标题（中）： 辐射敏感树脂组合物
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申请号： US254676申请日： 1994-06-06
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公开(公告)号： US5393641A公开(公告)日： 1995-02-28
- 发明人: Toshio Ito , Miwa Sakata
- 申请人： Toshio Ito , Miwa Sakata
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Oki Electric Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人： Oki Electric Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX4-017588 19920203
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/028 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/075 ; H01L21/027 ; H01L21/30
摘要：
A novel radiation-sensitive resin composition having high sensitivity and high O.sub.2 -RIE resistance is otained by blending 0.5 g of poly(di-t-butoxysiloxane), 50 mg of triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate as acid-producing agent, and 4 ml of 2-methoxyethyl acetate as solvent.
公开/授权文献
- US4403489A Strip winding machine and method 公开/授权日：1983-09-13
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