发明授权
- 专利标题： Composition and method for low temperature deposition of silicon-containing films
- 专利标题（中）： 含硅薄膜低温沉积的组成和方法
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申请号： US10699079申请日： 2003-10-31
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公开(公告)号： US07446217B2公开(公告)日： 2008-11-04
- 发明人: Ziyun Wang , Chongying Xu , Thomas H. Baum , Bryan Hendrix , Jeffrey F. Roeder
- 申请人： Ziyun Wang , Chongying Xu , Thomas H. Baum , Bryan Hendrix , Jeffrey F. Roeder
- 申请人地址： US CT Danbury
- 专利权人： Advanced Technology Materials, Inc.
- 当前专利权人： Advanced Technology Materials, Inc.
- 当前专利权人地址： US CT Danbury
- 代理机构： Intellectual Property/Technology Law
- 代理商 Kelly K. Reynolds; Steven J. Hultquist
- 主分类号： C07F7/02
- IPC分类号： C07F7/02 ; C23C16/34
摘要：
This invention relates to silicon precursor compositions for forming silicon-containing films by low temperature (e.g.,
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