发明授权
- 专利标题： Deposition of ternary oxide films containing ruthenium and alkali earth metals
- 专利标题（中）： 含有钌和碱土金属的三元氧化物膜的沉积
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申请号： US12411782申请日： 2009-03-26
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公开(公告)号： US08092721B2公开(公告)日： 2012-01-10
- 发明人: Satoko Gatineau , Julien Gatineau , Christian Dussarrat
- 申请人： Satoko Gatineau , Julien Gatineau , Christian Dussarrat
- 申请人地址： FR Paris US CA Fremont
- 专利权人： L'Air Liquide Societe Anonyme pour l'Etude Et l'Exploitation des Procedes Georges Claude,American Air Liquide, Inc.
- 当前专利权人： L'Air Liquide Societe Anonyme pour l'Etude Et l'Exploitation des Procedes Georges Claude,American Air Liquide, Inc.
- 当前专利权人地址： FR Paris US CA Fremont
- 代理商 Patricia E. McQueeney
- 主分类号： H01B1/02
- IPC分类号： H01B1/02 ; H01B1/12 ; H01B1/00 ; B05D5/12 ; B05D3/00 ; C23C16/00 ; C23C16/40 ; H01T14/00 ; H05H1/48 ; H05B6/02 ; H05B6/24 ; H01L21/00 ; H01L29/02
摘要：
Methods and compositions for the deposition of ternary oxide films containing ruthenium and an alkali earth metal.
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