发明授权
- 专利标题： Polishing composition containing polyether amine
- 专利标题（中）： 含聚醚胺的抛光组合物
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申请号： US12462067申请日： 2009-07-29
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公开(公告)号： US08741009B2公开(公告)日： 2014-06-03
- 发明人: Jeffrey M. Dysard , Paul M. Feeney , Sriram P. Anjur , Timothy P. Johns , Yun-Biao Xin , Li Wang
- 申请人： Jeffrey M. Dysard , Paul M. Feeney , Sriram P. Anjur , Timothy P. Johns , Yun-Biao Xin , Li Wang
- 申请人地址： US IL Aurora
- 专利权人： Cabot Microelectronics Corporation
- 当前专利权人： Cabot Microelectronics Corporation
- 当前专利权人地址： US IL Aurora
- 代理商 Thomas E Omholt; Steven D Weseman
- 主分类号： C09K3/14
- IPC分类号： C09K3/14 ; B24D3/02 ; C09C1/68 ; C09G1/02
摘要：
The inventive chemical-mechanical polishing system comprises a polishing component, a liquid carrier, and a polyether amine. The inventive method comprises chemically-mechanically polishing a substrate with the aforementioned polishing system.
公开/授权文献
- US20090289033A1 Polishing composition containing polyether amine 公开/授权日：2009-11-26
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