发明授权
- 专利标题： Photomasks and methods of manufacturing the same
- 专利标题（中）： 光掩模及其制造方法
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申请号： US13279859申请日： 2011-10-24
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公开(公告)号： US08784672B2公开(公告)日： 2014-07-22
- 发明人: Jong-Keun Oh , Dae-Hyuk Kang , Chan-Uk Jeon , Hyung-Ho Ko , Sung-Jae Han , Jung-Jin Kim
- 申请人： Jong-Keun Oh , Dae-Hyuk Kang , Chan-Uk Jeon , Hyung-Ho Ko , Sung-Jae Han , Jung-Jin Kim
- 申请人地址： KR Suwon-Si, Gyeonggi-Do
- 专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-Si, Gyeonggi-Do
- 代理机构： F. Chau & Associates, LLC
- 优先权： KR10-2010-0126890 20101213
- 主分类号： G03F1/46
- IPC分类号： G03F1/46 ; G03F1/48
摘要：
In a method of manufacturing a photomask pattern, a light-shielding layer pattern and an anti-reflective layer pattern are formed sequentially on a transparent substrate. Oxidation and nitridation processes are performed on a sidewall of the light-shielding layer pattern to form a protection layer pattern on a lateral portion of the light-shielding layer pattern.
公开/授权文献
- US20120148944A1 PHOTOMASKS AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME 公开/授权日：2012-06-14