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    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT
    2.
    发明申请
    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT 有权
    物体清洗方法

    公开(公告)号：US20110297182A1

    公开(公告)日：2011-12-08

    申请号：US12907642

    申请日：2010-10-19

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    METHOD OF FORMING PHOTOMASK
    3.
    发明申请
    METHOD OF FORMING PHOTOMASK 审中-公开
    形成光电子的方法

    公开(公告)号：US20160124301A1

    公开(公告)日：2016-05-05

    申请号：US14977767

    申请日：2015-12-22

    申请人： Jong Keun Oh ,  Hyungho Ko ,  Inkyun Shin ,  Jaehyuck Choi ,  JunYoul Choi

    发明人： Jong Keun Oh ,  Hyungho Ko ,  Inkyun Shin ,  Jaehyuck Choi ,  JunYoul Choi

    IPC分类号： G03F1/76

    CPC分类号： G03F1/76 ,  G03F1/38 ,  G03F1/48 ,  G03F1/54 ,  G03F1/68 ,  G03F1/80

    摘要： A photomask and a method of forming the same, the photomask including a transparent substrate; a light shielding pattern on the transparent substrate, the light shielding pattern including molybdenum and silicon; and an etch stop layer covering at least a sidewall of the light shielding pattern, wherein the etch stop layer has an etch rate lower than an etch rate of the light shielding pattern with respect to an ammonia-based cleaning solution.

    摘要翻译： 光掩模及其形成方法，所述光掩模包括透明基板; 透明基板上的遮光图案，包括钼和硅的遮光图案; 以及覆盖所述遮光图案的至少一侧壁的蚀刻停止层，其中所述蚀刻停止层的蚀刻速率低于所述遮光图案相对于氨基清洗溶液的蚀刻速率。

    Method of megasonic cleaning of an object
    5.
    发明授权
    Method of megasonic cleaning of an object 有权
    超声波清洗方法

    公开(公告)号：US09370805B2

    公开(公告)日：2016-06-21

    申请号：US13618521

    申请日：2012-09-14

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    Method of megasonic cleaning of an object
    6.
    发明授权
    Method of megasonic cleaning of an object 有权
    超声波清洗方法

    公开(公告)号：US08293020B2

    公开(公告)日：2012-10-23

    申请号：US12907642

    申请日：2010-10-19

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    PHOTOMASK AND METHOD OF FORMING THE SAME
    8.
    发明申请
    PHOTOMASK AND METHOD OF FORMING THE SAME 有权
    照相机及其形成方法

    公开(公告)号：US20140113221A1

    公开(公告)日：2014-04-24

    申请号：US14059533

    申请日：2013-10-22

    申请人： Jong Keun OH ,  Hyungho KO ,  Inkyun SHIN ,  Jaehyuck CHOI ,  JunYoul CHOI

    发明人： Jong Keun OH ,  Hyungho KO ,  Inkyun SHIN ,  Jaehyuck CHOI ,  JunYoul CHOI

    IPC分类号： G03F1/50

    CPC分类号： G03F1/76 ,  G03F1/38 ,  G03F1/48 ,  G03F1/54 ,  G03F1/68 ,  G03F1/80

    摘要： A photomask and a method of forming the same, the photomask including a transparent substrate; a light shielding pattern on the transparent substrate, the light shielding pattern including molybdenum and silicon; and an etch stop layer covering at least a sidewall of the light shielding pattern, wherein the etch stop layer has an etch rate lower than an etch rate of the light shielding pattern with respect to an ammonia-based cleaning solution.

    摘要翻译： 光掩模及其形成方法，所述光掩模包括透明基板; 透明基板上的遮光图案，包括钼和硅的遮光图案; 以及覆盖所述遮光图案的至少一侧壁的蚀刻停止层，其中所述蚀刻停止层的蚀刻速率低于所述遮光图案相对于氨基清洗溶液的蚀刻速率。

    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT
    9.
    发明申请
    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT 有权
    物体清洗方法

    公开(公告)号：US20130008476A1

    公开(公告)日：2013-01-10

    申请号：US13618521

    申请日：2012-09-14

    申请人： Jae-Hyuck CHOI ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck CHOI ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。