发明授权
- 专利标题： Negative-working thick film photoresist
- 专利标题（中）： 负性厚膜光致抗蚀剂
-
申请号： US13524811申请日： 2012-06-15
-
公开(公告)号： US08906594B2公开(公告)日： 2014-12-09
- 发明人: Chunwei Chen , PingHung Lu , Weihong Liu , Medhat Toukhy , SangChul Kim , SookMee Lai
- 申请人： Chunwei Chen , PingHung Lu , Weihong Liu , Medhat Toukhy , SangChul Kim , SookMee Lai
- 申请人地址： LU Luxembourg
- 专利权人： AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L.
- 当前专利权人： AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L.
- 当前专利权人地址： LU Luxembourg
- 代理商 Sangya Jain
- 主分类号： G03F7/028
- IPC分类号： G03F7/028 ; G03F7/075 ; G03F7/40 ; G03F7/30
摘要：
Disclosed are compositions for negative-working thick film photophotoresists based on acrylic co-polymers. Also included are methods of using the compositions.
公开/授权文献
- US20130337381A1 NEGATIVE-WORKING THICK FILM PHOTORESIST 公开/授权日：2013-12-19
信息查询
IPC分类:
