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    Positive photosensitive material
    2.
    发明授权
    Positive photosensitive material 有权
    正感光材料

    公开(公告)号：US09012126B2

    公开(公告)日：2015-04-21

    申请号：US13524790

    申请日：2012-06-15

    申请人： Weihong Liu ,  PingHung Lu ,  Chunwei Chen ,  Stephen Meyer ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai

    发明人： Weihong Liu ,  PingHung Lu ,  Chunwei Chen ,  Stephen Meyer ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

    摘要： The invention relates to a novel positive working photosensitive composition having: at least one photoacid generator; at least one novolak polymer; at least one polymer, having a polymer backbone, said polymer comprising a structure of the following formula: wherein R1-R5 are, independently, —H or —CH3, A is a linear or branched C1-C10 alkylene group, B is a C1-C12 alkyl or alicyclic group, D is a linking group that may be a chemical bond, a carboxylate group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, or a —COOCH2— group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, E is a linear or branched C2-C10 alkylene group, G is an acid cleavable group. The invention further relates to a process for using the novel composition for forming an image.

    摘要翻译： 本发明涉及一种新型的正性光敏组合物，其具有：至少一种光致酸发生剂; 至少一种酚醛清漆聚合物; 至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构：其中R 1 -R 5独立地是-H或-CH 3，A是直链或支链C 1 -C 10亚烷基，B是C1 -C 12烷基或脂环基，D是可以是化学键的连接基团，其中羰基碳键合到聚合物主链上的羧酸酯基团或-COOCH 2 - 基团，其中羰基碳键合到聚合物上 骨架，Ar是取代或未取代的芳基或杂芳基，E是直链或支链C 2 -C 10亚烷基，G是酸可裂解基团。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

    Process for making siloxane polymers
    4.
    发明申请
    Process for making siloxane polymers 审中-公开
    制备硅氧烷聚合物的方法

    公开(公告)号：US20100093969A1

    公开(公告)日：2010-04-15

    申请号：US12449750

    申请日：2008-02-25

    申请人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

    发明人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

    IPC分类号： C08G77/06

    CPC分类号： C09D183/06 ,  C08G77/06 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

    摘要： The present invention relates to process for making a siloxane polymer which comprises at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is a moiety other than hydrogen, comprising reacting one or more silane reactants together in the presence of a hydrolysis catalyst in either a water/alcohol mixture or in one or more alcohols to form the siloxane polymer; and separating the siloxane polymer from the water/alcohol mixture or the alcohol(s).

    摘要翻译： 本发明涉及制备硅氧烷聚合物的方法，其包含至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团，其中R是不同于氢的部分，包括使一种或多种硅烷反应物在一起存在下反应 在水/醇混合物中或在一种或多种醇中的水解催化剂以形成硅氧烷聚合物; 以及从水/醇混合物或醇分离硅氧烷聚合物。

    Antireflective composition for photoresists
    6.
    发明授权
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07638262B2

    公开(公告)日：2009-12-29

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/09

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective composition for photoresists
    10.
    发明申请
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20080038659A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。