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公开(公告)号:CN103811572A
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN201310560386.7
申请日:2013-11-12
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L31/0352 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/065 , H01L31/022441 , H01L31/02363 , H01L31/028 , H01L31/0682 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521 , H01L31/022466
Abstract: 本发明提供了一种光电装置及其制造方法。该光电装置包括:半导体基底,包括单晶硅并具有彼此相反的第一表面和第二表面;掺杂单元,形成在半导体基底的第一表面上;以及绝缘层,形成在掺杂单元和半导体基底的第二表面之间,其中,掺杂单元包括第一半导体层和第二半导体层,第一半导体层包括掺杂在单晶硅中的第一掺杂剂,第二半导体层包括掺杂在单晶硅中的第二掺杂剂。