公开(公告)号：CN101978474A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN200980109820.1

申请日：2009-01-26

申请人： 应用材料股份有限公司

发明人： 卡希克·贾纳基拉曼 ,  托马斯·诺瓦克 ,  胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  马克·A·福多尔 ,  戴尔·R·杜波依斯 ,  阿米特·班塞尔 ,  穆罕默德·阿尤布 ,  埃勒·Y·朱科 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  希姆·M·萨德

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/26 ,  H01L21/30 ,  H05H1/34

CPC分类号： C23C16/45565 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/503 ,  C23C16/505 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32532 ,  H01J37/32541

摘要： 本发明提供一种设备及方法，用于控制等离子体腔室中的等离子体放电的强度及分布。在一实施例中，成形电极嵌入基板支撑件中，以在所述腔室内提供具有径向及轴向分量的电场。在另一实施例中，用绝缘体将喷头组件的面板电极划分为多个区域，而能将不同电压施加至不同区域。此外，一或更多个电极可嵌入所述腔室侧壁中。