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公开(公告)号：CN1711213A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380103054.0
申请日：2003-11-12
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/122
Abstract: 本发明的目的在于提供适合在200℃以下的低温制造金属氧化物膜以及适合制造均质的有机－无机复合物时使用的含金属－氧键的分散质，同时提供具有各种功能的金属氧化物薄膜和有机－无机复合物，特别是具有高折射率、高透明性的有机－无机复合物。本发明使用含金属－氧键的分散质，其特征在于，其通过在有机溶剂中，在不存在酸、碱和/或分散稳定剂的情况下，将具有3个以上水解性基团的金属化合物与相对于该金属化合物的0.5倍摩尔以上且不到2倍摩尔的水在水解起始温度以下的温度混合，并升温至水解起始温度温度以上而得到的。
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公开(公告)号：CN1538937A
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN02815253.0
申请日：2002-08-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/0091 , C08F291/00 , C08G18/3876 , C08G18/775 , C08L51/003 , C08L51/10 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种具有金属－氧键的分散成分，它是在酸、碱和/或分散体稳定剂不存在下，在有机溶剂中利用0.5mol至低于1mol的水/每mol的金属醇盐或在－20℃或－20℃以下利用1.0至低于2.0mol的水/每mol的金属醇盐来水解金属醇盐而生产。在有机溶剂中，该分散成分稳定地分散但不会聚集。分散成分的使用使得可以在低至200℃或200℃以下的温度下生产出薄金属氧化物膜和均匀的有机/无机复合物。
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公开(公告)号：CN100436325C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN02815253.0
申请日：2002-08-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/0091 , C08F291/00 , C08G18/3876 , C08G18/775 , C08L51/003 , C08L51/10 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种具有金属-氧键的分散成分，它是在酸、碱和/或分散体稳定剂不存在下，在有机溶剂中利用0.5mol至低于1mol的水/mol金属醇盐或在-20℃或-20℃以下利用1.0至低于2.0mol的水/mol金属醇盐来水解金属醇盐而生产。在有机溶剂中，该分散成分稳定地分散但不会聚集。分散成分的使用使得可以在低至200℃或200℃以下的温度下生产出薄金属氧化物膜和均匀的有机/无机复合物。
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