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公开(公告)号:CN1711213A
公开(公告)日:2005-12-21
申请号:CN200380103054.0
申请日:2003-11-12
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/122
Abstract: 本发明的目的在于提供适合在200℃以下的低温制造金属氧化物膜以及适合制造均质的有机-无机复合物时使用的含金属-氧键的分散质,同时提供具有各种功能的金属氧化物薄膜和有机-无机复合物,特别是具有高折射率、高透明性的有机-无机复合物。本发明使用含金属-氧键的分散质,其特征在于,其通过在有机溶剂中,在不存在酸、碱和/或分散稳定剂的情况下,将具有3个以上水解性基团的金属化合物与相对于该金属化合物的0.5倍摩尔以上且不到2倍摩尔的水在水解起始温度以下的温度混合,并升温至水解起始温度温度以上而得到的。