叠层膜、叠层体、偏振片、偏振片卷的制造方法及显示装置

    公开(公告)号:CN116761717A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202280009328.2

    申请日:2022-01-06

    Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种与玻璃板贴合时的耐冲击性和高温高湿下的粘接耐久性、以及对反复折叠动作的耐久性和不产生光学不均的特性优异的叠层膜。此外,本发明提供一种将玻璃板与该叠层膜贴合而成的叠层体、具备该叠层膜或叠层体的偏振片、该偏振片卷的制造方法、以及具备该偏振片的显示装置。本发明的叠层膜是至少包含光学膜、粘合层和脱模膜的叠层膜,其中,所述光学膜的膜厚为1μm以上且小于10μm,并且所述粘合层的膜厚为1μm以上且小于10μm。

    偏振片、偏振片的制造方法和显示装置

    公开(公告)号:CN116490582A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202180059958.6

    申请日:2021-07-07

    Abstract: 本发明的技术问题在于:提供耐久性较高,能够简便地制造并且使用了二色性有机色素的偏振片及其制造方法和具备该偏振片的显示装置。本发明的偏振片为至少依次具备起偏镜层、粘接剂层和保护层的偏振片,其中,所述起偏镜层含有二色性有机色素,所述粘接剂层含有水性粘接剂,并且该水性粘接剂的pH值在测定温度25℃下为超过7.0并且低于9.0的范围内,所述偏振片具备以树脂为主要成分的光学膜作为所述保护层,并且,该光学膜的厚度为1μm以上并且低于10μm。

    层叠膜、偏振片、显示装置以及偏振片卷的制造方法

    公开(公告)号:CN115398286B

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202080099314.5

    申请日:2020-04-02

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种虽然为薄膜,但输送性优异,能够与以往的偏振片保护膜同样地进行处理,进而在偏振片加工时具有优异的卷曲控制性,偏振片加工的生产率(与起偏器的贴合性)得到提高的层叠膜、具备该层叠膜的没有光学不均的高品质的偏振片、显示装置以及偏振片卷的制造方法。本发明的层叠膜的特征在于,是在基材膜上层叠有能够剥离的功能性层的层叠膜,上述功能层的厚度在1~19μm的范围内,上述层叠膜的总厚度为50μm以下,将上述基材膜的23℃时的湿度膨胀系数设为CHE1(ppm/%RH)、厚度设为d1(μm)、上述功能层的23℃时的湿度膨胀系数设为CHE2(ppm/%RH)、厚度设为d2(μm)时,满足下述式1的关系。式1 0.20<|(CHE1‑CHE2)|×(d2/d1)<2.00。

    层叠膜、偏振片、显示装置以及偏振片卷的制造方法

    公开(公告)号:CN115398286A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202080099314.5

    申请日:2020-04-02

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种虽然为薄膜,但输送性优异,能够与以往的偏振片保护膜同样地进行处理,进而在偏振片加工时具有优异的卷曲控制性,偏振片加工的生产率(与起偏器的贴合性)得到提高的层叠膜、具备该层叠膜的没有光学不均的高品质的偏振片、显示装置以及偏振片卷的制造方法。本发明的层叠膜的特征在于,是在基材膜上层叠有能够剥离的功能性层的层叠膜,上述功能层的厚度在1~19μm的范围内,上述层叠膜的总厚度为50μm以下,将上述基材膜的23℃时的湿度膨胀系数设为CHE1(ppm/%RH)、厚度设为d1(μm)、上述功能层的23℃时的湿度膨胀系数设为CHE2(ppm/%RH)、厚度设为d2(μm)时,满足下述式1的关系。式1 0.20<|(CHE1‑CHE2)|×(d2/d1)<2.00。

    层叠膜、偏振片、显示装置以及偏振片卷的制造方法

    公开(公告)号:CN115280201A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202180021329.4

    申请日:2021-04-01

    Abstract: 本发明的课题在于,提供为薄膜且能够与以往的偏振片保护膜相同地处理,并进一步地在偏振片加工时具有优异的干燥性、尺寸稳定性、以及卷曲控制性,而偏振片加工的生产率提高的层叠膜、具备该层叠膜的偏振片、没有漏光、光学不均的高品质的显示装置、以及偏振片卷的制造方法。本发明的层叠膜的特征在于,是在基材膜上至少层叠了可剥离的功能层的层叠膜,上述功能层的层厚在1~19μm的范围内,上述基材膜的温度40℃、湿度90%RH下的透湿度在100~400g/m2·24h的范围内,上述基材膜的温度23℃、湿度20~80%RH间的膜面内的最大尺寸变化率在0.01~0.10%的范围内,并且上述基材膜的膜厚在20~60μm的范围内。

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