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公开(公告)号：CN117126503A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202310589346.9
申请日：2023-05-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: [技术问题]本发明的的技术问题在于：提供不残留胶带转印痕迹、不存在长期保管时的空气逸出引起的链状的膜变形的膜卷、其制造方法、偏振片和显示装置。[解决手段]提供一种不具有滚花加工部的膜卷，其中，将在所述膜卷的宽边方向侧面部测定得到的卷芯周边部彼此相邻的膜间的空隙层的厚度设为X[μm]，将卷外周边部彼此相邻的膜间的空隙层的厚度设为Y[μm]时，所述X和所述Y满足下述式(1)的关系，式(1)：Y
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2.发明公开公开(公告)号：CN117716229A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280048454.9
申请日：2022-06-20
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G01N21/892
Abstract: 本发明的课题在于提供能够高效地并且高精度地判定在基于剥离转印法的层叠体制造中使用的支承体薄膜的可否再利用的支承体薄膜的可否再利用判定方法、可否再利用判定程序及可否再利用判定系统、以及利用了该支承体薄膜的可否再利用判定方法的支承体薄膜的清洁方法、支承体薄膜的再利用方法、支承体薄膜卷的制造方法及转印性层叠薄膜卷的制造方法。本发明的支承体薄膜的可否再利用判定方法的特征在于，具有：测量步骤，在输送支承体薄膜的同时，使用光学测量单元测量与残存在上述支承体薄膜上的被转印薄膜残存物相关的数据；以及判定步骤，基于测量出的与上述被转印薄膜残存物相关的数据，判定包括上述支承体薄膜是否需要清洁的可否再利用。
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公开(公告)号：CN114096833A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202080050402.6
申请日：2020-06-30
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G01N21/89 , G01N21/892 , G02B5/30
Abstract: 本发明的课题在于提供通过基于光学系统的定量评价来进行相位差膜的取向不均缺陷的检测和评价、从而能够提高评价再现性的相位差膜的取向不均缺陷检测方法以及取向不均缺陷检测装置。本发明的相位差膜的取向不均缺陷检测方法具有下述步骤(1)～(5)。(1)在正交尼科耳配置的2张偏光板之间以所述相位差膜的迟相轴相对于偏光板的吸收轴倾斜‑10°～10°的方式旋转地配置。(2)经由一方的偏光板对所述相位差膜照射检查光。(3)经由另一方的偏光板对相位差膜进行摄影而得到亮度图像。(4)相对于所述相位差膜的迟相轴在倾斜方向上对摄影到的亮度图像进行微分(差分)处理而强调边缘部分。(5)利用预定的阈值对边缘强调后的亮度图像进行二值化，得到亮像素或者暗像素，从该像素检测取向不均。
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公开(公告)号：CN114096833B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202080050402.6
申请日：2020-06-30
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G01N21/89 , G01N21/892 , G02B5/30
Abstract: 本发明的课题在于提供通过基于光学系统的定量评价来进行相位差膜的取向不均缺陷的检测和评价、从而能够提高评价再现性的相位差膜的取向不均缺陷检测方法以及取向不均缺陷检测装置。本发明的相位差膜的取向不均缺陷检测方法具有下述步骤(1)～(5)。(1)在正交尼科耳配置的2张偏光板之间以所述相位差膜的迟相轴相对于偏光板的吸收轴倾斜‑10°～10°的方式旋转地配置。(2)经由一方的偏光板对所述相位差膜照射检查光。(3)经由另一方的偏光板对相位差膜进行摄影而得到亮度图像。(4)相对于所述相位差膜的迟相轴在倾斜方向上对摄影到的亮度图像进行微分(差分)处理而强调边缘部分。(5)利用预定的阈值对边缘强调后的亮度图像进行二值化，得到亮像素或者暗像素，从该像素检测取向不均。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117125521A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202310576003.9
申请日：2023-05-22
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B65H18/26 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B65H18/10 , B65H18/02 , B65H23/195
Abstract: 本发明提供一种薄膜辊、其制造方法、偏振片、以及显示装置，在运送时没有卷绕偏差，在长期保存时也没有粘连故障。薄膜辊不具有压花加工部，其特征在于，将在所述薄膜辊的宽度方向侧面部测量的、卷芯周边部彼此相邻的薄膜间的空隙层的厚度设为X[μm]、卷外周边部彼此相邻的薄膜间的空隙层的厚度设为Y[μm]时，所述X与所述Y满足下式(1)的关系，式(1)X＜Y。
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公开(公告)号：CN111103241B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN201911017114.6
申请日：2019-10-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供能够简便且定量地评价评价对象的光学膜光学特性的不均匀性的光学特性评价方法和光学特性评价系统。解决手段是，光学膜的评价方法，其中，基于对评价对象的光学膜和检偏振器进行了透射的光的偏振状态的分析而评价该光学膜的光学特性的不均匀性，所述方法的特征在于，针对多个部位测量光学膜的相位差以及取向角，且使用表示入射光的偏振状态的矢量、和至少光学膜以及检偏振器的偏振特性的矩阵，基于通过下述运算式1而运算的出射光的矢量的参数，对光学特性的不均匀性进行定量化而评价。(运算式1)：F2＝M×F1。
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公开(公告)号：CN111103241A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911017114.6
申请日：2019-10-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供能够简便且定量地评价评价对象的光学膜光学特性的不均匀性的光学特性评价方法和光学特性评价系统。解决手段是，光学膜的评价方法，其中，基于对评价对象的光学膜和检偏振器进行了透射的光的偏振状态的分析而评价该光学膜的光学特性的不均匀性，所述方法的特征在于，针对多个部位测量光学膜的相位差以及取向角，且使用表示入射光的偏振状态的矢量、和至少光学膜以及检偏振器的偏振特性的矩阵，基于通过下述运算式1而运算的出射光的矢量的参数，对光学特性的不均匀性进行定量化而评价。(运算式1)：F2＝M×F1。
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公开(公告)号：CN119534470A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411208346.0
申请日：2024-08-30
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G01N21/892 , G01N21/84 , G01N21/01
Abstract: 本发明涉及薄膜检查装置、薄膜检查方法以及程序。无需人工监视或作业而容易地进行薄膜产生缺陷的检测。在光学性地检查重叠的状态的薄膜中产生的缺陷的薄膜检查装置中，通过光源向薄膜照射光(步骤S1)，通过相机(光学传感器)检测在薄膜中反射的光中的至少漫射光(步骤S2)。薄膜检查装置通过从由相机的输出信号得到的第1图像数据提取检查定时下的检查区域(步骤S5)，并对与检查区域对应的第2图像数据进行数据处理，从而检测缺陷(步骤S6)。
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公开(公告)号：CN117142201A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202310620593.0
申请日：2023-05-29
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B65H18/10 , G02B5/30 , B32B27/06 , B32B27/32 , B32B27/30 , B32B23/20 , B32B23/04 , B65H18/26 , B65H26/00
Abstract: 提供进一步减少膜卷的粘附以及卷绕偏移的手段。一种不具有压花部的膜卷，在将在所述膜卷的侧面测定的卷中膜层间空隙设为X(单位：μm)、将包含膜端部的膜厚偏差设为Y(单位：μm)时，满足下述数式(1)以及数式(2)的膜卷0.05μm＜X＜0.50μm…数式(1)；0.7＜X/Y＜2.0…数式(2)。
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