立体图像显示装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101542357A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200880000492.7

    申请日:2008-05-12

    发明人: 是永继博

    摘要: 本发明提供一种立体图像显示装置,具备:将视点不同的多个原图像合成而构成的合成图像(10);透镜阵列(12);以及,与透镜阵列相同间距的衍射元件阵列(11)。衍射元件阵列具有由第1材料构成的层(11a)和由第2材料构成的层(11b),包括由第1材料构成的层和由第2材料构成的层的界面上形成的台阶d的炫耀衍射光栅形状。在将第1材料的折射率及第2材料的折射率作为可视光区域的任意的波长λ的函数而分别用n1(λ)及n2(λ)显示时,台阶d与λ/|n1(λ)-n2(λ)|大致相同。由此,伴随着色像差的图像的颜色偏差较少,所以能够显示高析像度、视野角较大、并且明亮的图像。

    一种六方型泰伯阵列照明器及制备方法

    公开(公告)号:CN105242398A

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201510646482.2

    申请日:2015-10-08

    申请人: 鲁东大学

    IPC分类号: G02B27/00 G02B5/18 G02B27/42

    摘要: 本发明涉及一种六方型泰伯阵列照明器及制备方法,其方法具体包括以下步骤:设置六方型阵列光斑在两个方向上的数目值M和N,对应设置M×N个相同尺寸的正六边形基元,以及基元的垂直距离△和光斑压缩比值γ;通过六方型阵列光斑在两个方向上的数目值M和N,以及基元的垂直距离△和光斑压缩比值γ,计算得到每一个基元在对应位置处的相位值计算得到每一个基元中第二通光孔的中心与基元第一通光孔的中心的相对位移值δmn,确定每一个基元的几何结构;将M×N个基元按位置参数(m,n)紧密排列,生成二元相位分布图;根据二元相位分布图,制备六方型泰伯阵列照明器。相对现有技术,本发明实现强度均匀分布、产生高衍射效率和高压缩比。

    摄像装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102959960A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201280001541.5

    申请日:2012-01-31

    发明人: 今村典广

    IPC分类号: H04N9/07

    摘要: 本发明提供一种摄像装置,该摄像装置具备:镜头光学系统(L),其具有第1光学区域(D1)、和具有与第1光学区域(D1)不同的光焦度的第2光学区域(D2);摄像元件(N),其具有多个像素(P1、P2);和阵列状光学元件(K),其使通过了第1光学区域(D1)之后的光入射至像素(P1),使通过了第2光学区域(D2)之后的光入射至像素(P2)。

    聚光元件以及固体摄像装置

    公开(公告)号:CN1938615A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200480042730.2

    申请日:2004-12-15

    发明人: 岁清公明

    IPC分类号: G02B5/18 G02B3/00 H01L27/14

    摘要: 为了实现与用于薄型照相机的短焦距光学系统(入射角θ为大角的光学系统)相对应的固体摄像装置等,提供比现存的微透镜更能够对高角度的入射光进行聚光的光学元件等。各单位像素(大小2.8μm)包括:渐变折射率透镜1,用于绿色的色彩过滤器2,AL布线3,信号传送部4,平坦化层5,受光元件(Si光电二极管)6,以及Si基板7。分布折射率透镜为同心带形状,包括高折射率材料33[TiO2(n=2.53)]和低折射率材料34[空气(n=1.0)]。而且,在分布折射率透镜中,相邻的被分割区域的宽度35为200nm。并且,膜厚t为0.5μm。

    相位光栅图像传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN1218398C

    公开(公告)日:2005-09-07

    申请号:CN02130207.3

    申请日:2002-08-16

    发明人: 黄进文 徐健斌

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/70

    摘要: 本发明有关一种相位光栅图像传感器的制造方法,其特点是至少包括下列步骤:提供一底材,该底材具有多个光传感元件于其上、一第一平坦层覆盖该多个光传感元件、一彩色滤光层覆盖该第一平坦层及一第二平坦层覆盖该彩色滤光层,其中该第一平坦层与该第二平坦层为透光;形成一光阻层覆盖该第二平坦层;转移多个相位光栅图案进入该光阻层以暴露出该第二平坦层,每一该相位光栅图案至少包括多个同心圆形环且每一该相位光栅图案分别对应于每一该光传感元件;非等向性蚀刻该第二平坦层至一预定深度以形成多个相位光栅透镜;及移除该光阻层。由于形成多个相位光栅透镜于传统微透镜下的平坦层内,这样可以相位光栅透镜取代传统微透镜。