纳米转印方法及纳米功能器件

    公开(公告)号:CN105374467B

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201510696751.6

    申请日:2015-10-23

    摘要: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件,其中,纳米转印方法包括如下步骤:S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶;S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻,形成沟槽图形;S3.第一次电铸处理,形成图形电极;S4.第二次电铸处理,形成转印层;S5.通过卷对平转印模式,控制所述柔性金属基板,在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印,或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具,通过电沉积工艺,在转印模具的电极上形成纳米级材料层,并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。

    可喷绘反光膜及其制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108535800A

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201810547321.1

    申请日:2018-05-31

    IPC分类号: G02B5/128

    CPC分类号: G02B5/128

    摘要: 本发明涉及一种可喷绘反光膜及其制备方法,该可喷绘反光膜包括载体层和反光层,反光层自上而下包括依次设置的光敏胶层、微珠层、反射层、粘着层和离型层,载体层设置在光敏胶层上,微珠层包括若干微珠,反射层设置在微珠层上。该制备方法包括S1、将光敏胶与微珠混合,充分搅拌后将其涂布在载体层上,随后进行光固化,得到涂布在载体层上的光敏胶层和微珠层;S2、在光敏胶层远离载体层的侧面上通过沉积法形成反射层,再在反射层上涂布粘着层,并与离型层复合,得到可喷绘反光膜。该制备方法工艺简单、成本较低,适合工业化生产,且制备得到的可喷绘反光膜层间结合更牢固,成品不易分离和断裂。

    微棱镜型反光膜及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106990460A

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201710262841.3

    申请日:2017-04-20

    IPC分类号: G02B5/126

    CPC分类号: G02B5/126

    摘要: 本发明提供一种微棱镜型反光膜,包括透明基膜和微棱镜层,微棱镜层设置在透明基膜的表面上,微棱镜层为多个微棱镜单元组合,每个微棱镜单元包括第一棱镜和第二棱镜,第一棱镜为三棱锥结构且分别在顶角和底角处各截去一个角后形成,具有一个底面、三个侧面、三个底截面及一个顶截面;第二棱镜为三棱锥结构,分别具有一个底面、三个侧面、一个顶角、三个底角,第一棱镜的底面和第二棱镜的底面与透明基膜结合,第二棱镜设置在相邻的第一棱镜之间的空隙内。本发明的微棱镜型反光膜能够增大观察角、减小脱模难度。