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    产生光点阵列的设备
    3.
    发明公开
    产生光点阵列的设备 失效

    公开(公告)号：CN101040208A

    公开(公告)日：2007-09-19

    申请号：CN200580034712.4

    申请日：2005-09-28

    申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司

    发明人： L·P·巴克

    IPC分类号： G02B27/44

    CPC分类号： G02B27/0087 ,  G02B5/1866

    摘要： 本发明涉及一种从输入光束产生周期光点阵列的设备，所述设备包括：形成多个交织的孔径子阵列的周期孔径阵列(202)；放置在所述孔径之前、用以向所述输入光束施加相移的移相器元件(PSi)，以使每个光点被构造为所述多个交织的孔径子阵列产生的多个光点的叠加。

    用于影响光线的装置
    4.
    发明公开
    用于影响光线的装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN1975549A

    公开(公告)日：2007-06-06

    申请号：CN200610151371.5

    申请日：2006-09-07

    申请人： 翰兹-利索兹切科专利管理有限公司及两合公司

    发明人： 维塔利杰·利索塔奇恩库 ,  阿里克西·米科哈洛夫 ,  尤瑞·米科利阿维 ,  麦克希姆·达什特

    IPC分类号： G02F1/29 ,  G02B3/00

    CPC分类号： G02F1/292 ,  G02B27/0087 ,  G02B27/0961 ,  G02F2203/04

    摘要： 本发明涉及影响光线的装置，包括第一透镜元件阵列(1)，要被影响的光线可以至少部分地穿过这些透镜元件；第一相位改变元件阵列(3)，它们可以改变穿过第一透镜元件阵列(1)中各个透镜元件的光线的相位；第二透镜元件阵列(9)，被相位改变元件改变了相位的光线可至少部分地通过这些透镜元件，其中第二透镜元件阵列(9)如此设置在装置中，使得要被影响的光线的多个局部强度最大值可形成在要被影响的光线的传播方向(Z)上第二透镜元件(9)的范围内；第一透镜元件，它被设置在第一透镜元件阵列(1)与第二透明元件阵列(9)之间；以及第二透镜元件(22)，它被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件阵列(9)之间，其中第一相位改变元件阵列(3)被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件(22)之间。

    一种六方型泰伯阵列照明器及制备方法
    5.
    发明公开
    一种六方型泰伯阵列照明器及制备方法 无效

    公开(公告)号：CN105242398A

    公开(公告)日：2016-01-13

    申请号：CN201510646482.2

    申请日：2015-10-08

    申请人： 鲁东大学

    发明人： 朱林伟 ,  孙美玉 ,  陈建农 ,  李志刚

    IPC分类号： G02B27/00 ,  G02B5/18 ,  G02B27/42

    CPC分类号： G02B27/0087 ,  G02B5/1876 ,  G02B5/1885 ,  G02B27/0037 ,  G02B27/425

    摘要： 本发明涉及一种六方型泰伯阵列照明器及制备方法，其方法具体包括以下步骤：设置六方型阵列光斑在两个方向上的数目值M和N，对应设置M×N个相同尺寸的正六边形基元，以及基元的垂直距离△和光斑压缩比值γ；通过六方型阵列光斑在两个方向上的数目值M和N，以及基元的垂直距离△和光斑压缩比值γ，计算得到每一个基元在对应位置处的相位值计算得到每一个基元中第二通光孔的中心与基元第一通光孔的中心的相对位移值δmn，确定每一个基元的几何结构；将M×N个基元按位置参数(m，n)紧密排列，生成二元相位分布图；根据二元相位分布图，制备六方型泰伯阵列照明器。相对现有技术，本发明实现强度均匀分布、产生高衍射效率和高压缩比。

    检眼镜中的改进以及与检眼镜相关的改进
    6.
    发明公开
    检眼镜中的改进以及与检眼镜相关的改进 有权

    公开(公告)号：CN104127167A

    公开(公告)日：2014-11-05

    申请号：CN201410185233.3

    申请日：2014-05-04

    申请人： 光电子有限公司

    发明人： G·穆约 ,  D·斯旺

    IPC分类号： A61B3/12

    CPC分类号： A61B3/1025 ,  A61B3/1225 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/0031 ,  G02B27/0087

    摘要： 提供了一种用于扫描眼睛的视网膜的扫描激光检眼镜，包括：发射光束的光源，扫描中继元件，其中光源和扫描中继元件提供从眼睛的瞳孔点处的表面点源传递至眼睛的视网膜的光束的二维扫描，以及静态偏差校正元件(30)，其中静态偏差校正元件的形状被限定为提供对扫描中继元件中的至少一些的偏差的校正，静态偏差校正元件在检眼镜中的位置被选择为提供对扫描中继元件中的至少一些的偏差的校正，该位置保持了光束的从眼睛的瞳孔点处的表面点源至眼睛的视网膜的传递。本发明还提供偏差校正元件以及测定偏差校正元件的形状的方法。

    用于影响光线的装置
    8.
    发明授权
    用于影响光线的装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN1975549B

    公开(公告)日：2011-04-20

    申请号：CN200610151371.5

    申请日：2006-09-07

    申请人： LIMO专利管理有限及两合公司

    发明人： 维塔利杰·利索塔奇恩库 ,  阿里克西·米科哈洛夫 ,  尤瑞·米科利阿维 ,  麦克希姆·达什特

    IPC分类号： G02F1/29 ,  G02B3/00

    CPC分类号： G02F1/292 ,  G02B27/0087 ,  G02B27/0961 ,  G02F2203/04

    摘要： 本发明涉及影响光线的装置，包括第一透镜元件阵列(1)，要被影响的光线可以至少部分地穿过这些透镜元件；第一相位改变元件阵列(3)，它们可以改变穿过第一透镜元件阵列(1)中各个透镜元件的光线的相位；第二透镜元件阵列(9)，被相位改变元件改变了相位的光线可至少部分地通过这些透镜元件，其中第二透镜元件阵列(9)如此设置在装置中，使得要被影响的光线的多个局部强度最大值可形成在要被影响的光线的传播方向(Z)上第二透镜元件(9)的范围内；第一透镜元件，它被设置在第一透镜元件阵列(1)与第二透明元件阵列(9)之间；以及第二透镜元件(22)，它被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件阵列(9)之间，其中第一相位改变元件阵列(3)被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件(22)之间。