生物体电极组成物、生物体电极、及其制造方法

    公开(公告)号:CN117430744A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202310868989.7

    申请日:2023-07-17

    Abstract: 本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、及其制造方法。本发明的课题为提供可形成导电性及生物体适合性优异、轻量、且能以低成本制造,不论被水濡湿或干燥而导电性也不会大幅降低,柔软且伸缩性及粘着性优异的生物体电极用的生物体接触层的生物体电极组成物;以该生物体电极组成物形成有生物体接触层的生物体电极;以及其制造方法。本发明的解决手段,是一种生物体电极组成物,含有离子性的高分子材料作为(A)成分,其特征在于:该(A)成分含有具有重复单元a及重复单元b的聚合物,该重复单元a具有选自氟磺酸、氟磺酰亚胺、及N‑羰基氟磺酰胺中的任一者的铵盐、钠盐、钾盐、及银盐中的结构,该重复单元b具有硝基。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    95.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116560186A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310052290.3

    申请日:2023-02-02

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。

    化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

    公开(公告)号:CN116360217A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202211633529.8

    申请日:2022-12-19

    Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,其能形成具有极高分辨率,LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,包含基础聚合物,该基础聚合物含有:包括含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或包括含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物及包括含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物,该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中,具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔%以上。

    正型抗蚀剂材料及图案形成方法
    97.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116136647A

    公开(公告)日:2023-05-19

    申请号:CN202211439146.7

    申请日:2022-11-17

    Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制,具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率,边缘粗糙度、尺寸偏差小,且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,含有末端被含连接于硫醚基的羧酸阴离子的锍盐封端而成的基础聚合物。

    伸缩性配线膜及其形成方法

    公开(公告)号:CN111385968B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN201911348345.5

    申请日:2019-12-24

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明的课题是为了提供伸展时导电性的降低少,且膜表面的拨水性优良的伸缩性配线膜及其形成方法。一种伸缩性配线膜,含有:(A)伸缩性膜,至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成,且该伸缩性膜的表面形成有深度为0.1μm~5mm、节距为0.1μm~10mm的范围的凹凸的重复图案,及(B)伸缩性配线;其特征为:在该伸缩性膜的形成有该凹凸的重复图案的表面上形成有该伸缩性配线。

Patent Agency Ranking