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公开(公告)号：CN115104064A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202080095262.4
申请日：2020-03-19
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 目的是提供能够控制抗蚀剂图案的侧壁角度的曝光方法。曝光方法包含以下步骤：读入表示第1参数与第2参数的关系的数据，根据数据和第2参数的目标值决定第1参数的目标值(S201～S203)，其中第1参数是和具有第1波长的第1脉冲激光与具有比第1波长大的第2波长的第2脉冲激光的能量比率有关的参数，第2参数是与利用第1脉冲激光和第2脉冲激光来曝光抗蚀剂膜的情况下得到的抗蚀剂膜的侧壁角度有关的参数；以及根据第1参数的目标值对窄带化气体激光装置进行控制，以使其输出第1脉冲激光和第2脉冲激光，并曝光抗蚀剂膜(S205)。
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公开(公告)号：CN115066655A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202080095287.4
申请日：2020-03-19
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: G03F7/20 , H01S3/1055
Abstract: 窄带化装置具有：第1棱镜；第1光栅和第2光栅，它们在通过第1棱镜后的光束的光路上配置于沿第1光栅和第2光栅中的任意方的槽的方向上的不同位置；光束调整光学系统，其配置于第1光栅和第2光栅中的至少任意一个光栅与第1棱镜之间的光束的光路上，使光束的第1部分入射到第1光栅，使光束的第2部分入射到第2光栅；第1致动器，其调整第1部分入射到第1光栅的入射角；第2致动器，其调整第2部分入射到第2光栅的入射角；以及第3致动器，其通过调整光束调整光学系统中包含的至少1个光学元件的位置和姿态中的任意方，来调整第1部分与第2部分的能量比率。
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公开(公告)号：CN111148596B
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN201780094447.1
申请日：2017-10-04
Applicant: 极光先进雷射株式会社
Abstract: 一种激光加工方法，使用激光加工系统对相对于紫外线透明的透明材料实施激光加工，该激光加工系统具有：激光装置，其输出紫外线的脉冲激光；转印掩模，其形成有使脉冲激光透过的转印图案；以及转印光学系统，其对转印像进行转印，该转印像是通过使脉冲激光透过转印图案而形成的，且形状与转印图案对应，其中，该激光加工方法具有以下的步骤：A.定位步骤，在脉冲激光的光轴方向上进行由转印光学系统转印的转印像的转印位置与透明材料之间的相对定位，该定位使得转印位置在光轴方向上成为从透明材料的表面向透明材料的内部进入了规定的深度ΔZsf的位置；以及B.照射步骤，对透明材料照射脉冲宽度为1ns～100ns的范围且转印位置处的射束的直径为10μm以上且150μm以下的脉冲激光。
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公开(公告)号：CN110622373B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201780090870.4
申请日：2017-06-12
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/134
Abstract: 本公开的激光装置具有：激光输出部，其进行激光振荡；以及控制部，其在停止从激光输出部向外部装置输出激光的期间内，取得在激光输出部中进行基于第1激光控制参数的激光振荡的情况下得到的第1激光性能数据和在激光输出部中进行基于第2激光控制参数的激光振荡的情况下得到的第2激光性能数据，判定第2激光性能数据与第1激光性能数据相比是否得到改善。
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公开(公告)号：CN110603695B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201780090371.5
申请日：2017-06-13
Applicant: 极光先进雷射株式会社
Abstract: 激光装置具有光学元件，该光学元件由CaF2晶体形成，紫外的激光倾斜地入射到光学元件的1个面并进行透射，在内部传播的激光相对于上述面的P偏振成分的电场轴和CaF2晶体的 中包含的1个轴一致。光学元件的制造方法包含以下步骤：针对使CaF2的籽晶在 中包含的1个轴的方向上进行晶体生长而形成的晶锭，将从晶体生长方向向 中包含的与晶体生长方向不同的另一个轴的方向倾斜14.18±5°的范围内的角度后的轴作为切断轴，与切断轴垂直地切断晶锭，由此制造光学元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112970155A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201880099248.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/00 , B23K26/073 , G02B27/09
Abstract: 激光加工装置具有：载置台，其载置被加工物；整形光学系统，其构成为对激光进行整形，以使激光在掩模中的第1照射区域成为具有短边和长边的矩形，该掩模构成为遮断激光的一部分，整形光学系统能够固定第1照射区域的与短边平行的方向上的第1照射宽度和第1照射区域的与长边平行的方向上的第2照射宽度中的一方，变更另一方；投影光学系统，其构成为将掩模的图案投影到被载置于载置台的被加工物；以及移动装置，其使第1照射区域至少在与短边平行的方向上移动，而使激光在被载置于载置台的被加工物中的第2照射区域移动。
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公开(公告)号：CN110023027B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201780073789.5
申请日：2017-01-17
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: B23K26/53 , H01L21/301
Abstract: 激光加工系统具有：A、波长可变激光装置，其输出脉冲激光，并且能够使脉冲激光的波长发生变化；B、光学系统，其对被加工物照射从波长可变激光装置输出的脉冲激光；C、基准波长取得部，其取得与基于被加工物的材料的光子吸收对应的基准波长；D、激光加工控制部，其对波长可变激光装置进行控制，在对被加工物实施主加工之前执行预加工，并且一边使波长可变激光装置所输出的脉冲激光的波长在包含基准波长的规定范围内变化，一边按照多个波长执行波长搜索用预加工；E、加工状态计测器，其计测按照多个波长进行的波长搜索用预加工的每个波长的加工状态；以及F、最佳波长确定部，其对每个波长的加工状态进行评价来确定用于主加工的最佳波长。
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公开(公告)号：CN109792132B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201680089816.3
申请日：2016-11-29
Applicant: 极光先进雷射株式会社
Abstract: 激光加工系统具备：波长可变激光装置，其输出氧吸收光的波长的吸收线和氧的吸光量比吸收线少的波长的非吸收线各自的激光；光学系统，其向被加工物照射激光；以及激光控制部，其控制波长可变激光装置的激光控制部，在包含氧的气体中对被加工物的表面进行激光加工时，将波长可变激光装置输出的激光的波长设定为非吸收线，而且在包含氧的气体中对被加工物的表面进行臭氧洗涤时，将波长可变激光装置输出的激光的波长设定为吸收线。
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公开(公告)号：CN112640230A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201880097096.4
申请日：2018-10-23
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/10 , H01S3/067 , H01S3/0941 , H01S3/225 , H01S5/40
Abstract: 本公开的一个观点的激光系统包含第1固体激光装置、波长转换系统、准分子放大器和控制部，第1固体激光装置包含第1多半导体激光器系统、第1半导体光放大器和第1光纤放大器。第1多半导体激光器系统包含第1多个半导体激光器、第1谱监视器和第1合束器，该第1多个半导体激光器的波长彼此不同，并且为单纵模，并且进行连续波振荡，控制部对由第1多个半导体激光器生成的第1多线谱的各线的振荡波长和光强度进行控制，以得到从外部装置指示的至少目标中心波长或目标谱线宽度的准分子激光。
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公开(公告)号：CN108141000B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201580083635.5
申请日：2015-11-13
Applicant: 极光先进雷射株式会社
IPC: H01S3/036
Abstract: 提供了激光气体精制系统和激光系统。激光气体精制系统是对从激光装置排出的激光气体进行精制，并使精制后的激光气体返回到激光装置的激光气体精制系统，该激光气体精制系统可以具有：第一配管，其导入从激光装置排出的激光气体；精制装置，其与第一配管连接，对从激光装置排出的激光气体进行精制；第二配管，其与精制装置连接，使被精制装置精制后的激光气体返回到激光装置；以及排气装置，其设置在第一配管、精制装置以及第二配管中的至少一个上。
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