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公开(公告)号：CN111370292B
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN201910862769.7
申请日：2019-09-12
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供放电灯及照明装置，能够使密封管的温度降低，减少对密封管施加的应力，并防止裂纹。一种放电灯，其特征在于，该放电灯具有：放电管；一对密封管，其与放电管的两侧连接设置；以及筒状的防风部件，其覆盖至少一个密封管，在防风部件的至少一部分形成有抑制向密封管反射来自该密封管的辐射热的热反射抑制单元。
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公开(公告)号：CN118692891A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311150348.4
申请日：2023-09-07
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供准分子灯，提高箔状的电极与电介质的密合性而抑制剥离。在利用电介质(50)包覆箔电极(30)并在电介质(50)与放电管(20)之间形成有放电空间(S)的准分子灯(10)中，形成有箔电极(30)，该箔电极(30)具有厚度恒定的平坦部(32)，朝向宽度方向两端(E1、E2)形成有楔形形状部(34A、34B)。
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公开(公告)号：CN111992893B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202010277835.7
申请日：2020-04-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 提供激光加工装置。即使在装置发生了摆动的情况下，也能够保持精度，即使处于摆动状态，也能够实施激光加工，所以提高生产力。一种激光加工装置，其具有：照明光学系统，其将线状的加工用激光照射到掩模，并且利用扫描机构对掩模进行扫描；投影光学系统，其将通过掩模后的加工用激光照射到被加工物；被加工物载置台，其载置被加工物，并且使被加工物在x‑y方向上移动；支承体，照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台固定于该支承体，使得照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台一体地位移；以及减振装置，其抑制支承体的振动。
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公开(公告)号：CN116705589A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202211077237.0
申请日：2022-09-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供放电灯。在放电灯的电极中，抑制了配置于封入有导热体的密闭空间内的整流体等产生裂纹等。在放电灯(10)的阳极(30)内，形成有密闭空间(50)，封入有在灯点亮时溶融的导热体(M)。并且，将第1板状部件、第2板状部件(40A、40B)层叠而得到的整流体(40)配置于密闭空间(50)内。第1板状部件、第2板状部件(40A、40B)的厚度(T1、T2)不同，使第1板状部件(40A)比第2板状部件(40B)厚。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116666191A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202211077190.8
申请日：2022-09-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供放电灯。在放电灯的电极中，抑制配置于封入有导热体的密闭空间内的整流体等产生裂纹等。在短弧型的放电灯(10)中，在电极(阳极，30)内形成有密闭空间，封入有在灯点亮时熔融的导热体(M)。并且，在密闭空间(50)内配置有整流体(40)。整流体(40)的截面具有层状的组织。
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公开(公告)号：CN116264152A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211093263.2
申请日：2022-09-08
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供准分子灯、准分子灯的点亮方法以及准分子灯的制造方法。该准分子灯能够提高灯的点亮启动性，并且高效地点亮。准分子灯(10)具有外侧管(20)以及同轴配置于外侧管(20)内的内侧管(50)，内侧管(50)覆盖内侧电极(30)。在外侧管(20)与内侧管(50)之间形成有主放电空间(S1)。并且，在内侧电极(30)与内侧管(50)之间形成有点亮启动辅助用的放电空间(S2，以下称为辅助放电空间)。
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公开(公告)号：CN110320765B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201910149661.3
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
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公开(公告)号：CN116060798A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211082536.3
申请日：2022-09-06
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。通过透镜的厚度不恒定的透镜阵列而使激光均匀化并防止产生激光损失。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，将z轴设为光轴方向，将与z轴和y轴垂直的方向设为x轴，将与z轴和x轴垂直的方向设为y轴，沿着z轴排列地具有第1透镜阵列和第2透镜阵列，该第1透镜阵列和第2透镜阵列分别具有沿着x轴和y轴中的至少一个方向排列的多个透镜，第1透镜阵列和第2透镜阵列中的一方的透镜的厚度至少在一个方向上不恒定。
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公开(公告)号：CN110955118A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201910149815.9
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置。利用抑制了设置空间的RtoR输送系统的曝光装置进行长基板的双面曝光。在RtoR输送系统的曝光装置(10)中，在曝光载台(15)的单侧配置供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)，在相反侧配置基板折回机构(50)。然后，基板折回机构(50)使从供给卷轴(22)送出的长基板(W)朝向相反方向折回，并且使正面背面翻转。曝光部(40)在曝光载台(15)与包含供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)的基板供给/收卷装置(20)一体地进行相对移动的期间内，对长基板(W)的正面侧曝光对象部分(W1)和背面侧曝光对象部分(W2)这双方同时进行曝光。
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