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公开(公告)号：CN102385256A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110240580.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70475
Abstract: 一种曝光装置，能够进行没有曝光不均的重叠曝光，形成高精度的图案。在使曝光区向主扫描方向倾斜的状态下执行重叠曝光动作时，伴随DMD的有效区域的设定来计算曝光间距。由于能够调整曝光间距，因而即使产生曝光条件、曝光装置机构的问题等，也能够成为使曝光点分布均匀分散的分布状态，能够形成没有曝光不均的高精度的图案。
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公开(公告)号：CN116060797A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211082532.5
申请日：2022-09-06
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够防止光学元件成为高温，并且能够防止光路长度变长、装置大型化。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀，光量均匀化部具有沿着光轴依次排列的第1透镜阵列、第2透镜阵列以及第3透镜阵列，在比第1透镜阵列的焦点靠后的位置设置有第2透镜阵列，使得在第2透镜阵列之后，在到照射面之间的光路上不存在会聚点，第1透镜阵列和第3透镜阵列具有正光焦度，第2透镜阵列具有负光焦度。
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公开(公告)号：CN101082781A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200710104680.1
申请日：2007-05-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 鹫山裕之
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种描图系统，从而在描图处理中，不必根据know－how的知识的设定而形成适当的描图图案。根据预设的发光长度，根据二个式子而算出曝光动作间距(Epm)及扫瞄速度(Vm)。然后，在各种曝光量与发光长度以及与其对应的扫瞄速度与曝光动作间距中，对应于所选择的曝光量及发光长度而决定扫瞄速度及曝光动作间距，并将其作为曝光参数而在描图处理中做设定。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116060799A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211087409.2
申请日：2022-09-07
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够独立地调整激光光束的不同方向的尺寸。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，采用了如下的结构：所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀化，将z轴设为光轴方向，将与z轴和y轴垂直的方向设为x轴，将与z轴和x轴垂直的方向设为y轴，光量均匀化部由第1对和第2对构成，该第1对由沿着z轴排列的2片第1柱面透镜阵列构成，该第2对由沿着z轴排列的2片第2柱面透镜阵列构成，第1柱面透镜阵列在x轴方向上具有透镜作用，第2柱面透镜阵列在y轴方向上具有透镜作用，第1对的第1柱面透镜阵列的第1间隔和第2对的第2柱面透镜阵列的第2间隔中的至少一方可变。
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公开(公告)号：CN111992893A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010277835.7
申请日：2020-04-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 提供激光加工装置。即使在装置发生了摆动的情况下，也能够保持精度，即使处于摆动状态，也能够实施激光加工，所以提高生产力。一种激光加工装置，其具有：照明光学系统，其将线状的加工用激光照射到掩模，并且利用扫描机构对掩模进行扫描；投影光学系统，其将通过掩模后的加工用激光照射到被加工物；被加工物载置台，其载置被加工物，并且使被加工物在x-y方向上移动；支承体，照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台固定于该支承体，使得照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台一体地位移；以及减振装置，其抑制支承体的振动。
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公开(公告)号：CN111992893B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202010277835.7
申请日：2020-04-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 提供激光加工装置。即使在装置发生了摆动的情况下，也能够保持精度，即使处于摆动状态，也能够实施激光加工，所以提高生产力。一种激光加工装置，其具有：照明光学系统，其将线状的加工用激光照射到掩模，并且利用扫描机构对掩模进行扫描；投影光学系统，其将通过掩模后的加工用激光照射到被加工物；被加工物载置台，其载置被加工物，并且使被加工物在x‑y方向上移动；支承体，照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台固定于该支承体，使得照明光学系统、掩模的支承部、投影光学系统和被加工物载置台一体地位移；以及减振装置，其抑制支承体的振动。
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公开(公告)号：CN116060798A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211082536.3
申请日：2022-09-06
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。通过透镜的厚度不恒定的透镜阵列而使激光均匀化并防止产生激光损失。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，将z轴设为光轴方向，将与z轴和y轴垂直的方向设为x轴，将与z轴和x轴垂直的方向设为y轴，沿着z轴排列地具有第1透镜阵列和第2透镜阵列，该第1透镜阵列和第2透镜阵列分别具有沿着x轴和y轴中的至少一个方向排列的多个透镜，第1透镜阵列和第2透镜阵列中的一方的透镜的厚度至少在一个方向上不恒定。
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公开(公告)号：CN101082781B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200710104680.1
申请日：2007-05-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 鹫山裕之
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种描图系统，从而在描图处理中，不必根据know-how的知识的设定而形成适当的描图图案。根据预设的发光长度，根据二个式子而算出曝光动作间距(Epm)及扫瞄速度(Vm)。然后，在各种曝光量与发光长度以及与其对应的扫瞄速度与曝光动作间距中，对应于所选择的曝光量及发光长度而决定扫瞄速度及曝光动作间距，并将其作为曝光参数而在描图处理中做设定。
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