用于光学滤光片的自动缺陷检测与映射

    公开(公告)号:CN107667287A

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201680032192.1

    申请日:2016-06-03

    Abstract: 公开了用于表征光学滤光片的点瑕疵(包括小孔和点缺陷)的装置和方法。执行通带测试包括:以其光谱范围至少与光学滤光片的通带重叠的通带照明来照射光学滤光片;当利用通带照明照射光学滤光片时,使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的通带图;以及将光学滤光片的点缺陷识别为通带图的低强度位置。执行阻带测试包括:以其光谱范围完全位于光学滤光片的通带之外的阻带照明来照射光学滤光片;当利用阻带照明照射光学滤光片时,使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的阻带图;以及将光学滤光片的小孔识别为阻带图的高强度位置。

    管件清洗检测一体机
    135.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107389690A

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201710732113.4

    申请日:2017-08-24

    Inventor: 赵小东 章映悦

    Abstract: 本发明涉及管件加工设备的技术领域,尤其是指管件清洗检测一体机,包括壳体、开设于壳体一侧的进料通道以及开设于壳体另一侧的出料通道,所述壳体设有设于进料通道以及出料通道之间的管件外观检测装置与设于出料通道的一侧的管件清洗装置;所述管件外观检测装置包括底座、环形均布于底座的至少三个视觉检测装置以及开设于底座的第一通道。本发明中,管件依次经过进料通道、管件外观检测装置的第一通道、出料通道以及管件清洗装置,实现管件检测和清洗一体进行,提高了生产效率和节约成本;至少三个环形均布于底座的视觉检测装置,实现对管件外观全方位检测的目的,而且该视觉检测装置能判断拍摄管件后的图像是否有瑕疵。

    一种针对牛奶成分检测的近红外漫反射型光谱仪

    公开(公告)号:CN107389599A

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201710623154.X

    申请日:2017-07-27

    CPC classification number: G01N21/359 G01N2201/061

    Abstract: 本发明公开了一种针对牛奶成分检测的近红外漫反射型光谱仪,包括:光源系统、分光系统、积分球样品池、探测器、数据采集器、嵌入式系统及电源装置。该仪器通过光源系统,样品池和探测器对样本的光信息进行获取。然后由数据采集器将检测到的模拟电信号转换后以数字信号形式输入到嵌入式系统中,在嵌入式系统中进行数据采集、数据预处理、特征提取、串口通信和模式识别,完成对牛奶成分的检测并将识别的结果反馈给用户。数据可通过有线或者无线方式传输给PC机进行更复杂的处理。近红外漫反射型光谱仪实现了对牛奶质量的实时、快速检测,对提高牛奶质量管理有着重要的意义。拥有广阔的应用前景和更强的市场竞争力。

    一种全内反射微流控芯片检测一体机

    公开(公告)号:CN107345899A

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201610290001.3

    申请日:2016-05-05

    Applicant: 重庆大学

    Inventor: 徐紫宸 王贵学

    CPC classification number: G01N21/01 B01L3/5027 G01N21/84 G01N2201/061

    Abstract: 本发明开了一种全内反射微流控芯片检测一体机,由主机箱体、样品箱和显示器组成,其特征在于:长方形的主机箱体通过箱室隔板被分为下箱室和上箱室上下两层,并且都有独立的透明门;下箱室安装有全反射光源及接收器,上箱室安装有样品台、校准光源等。本发明相对于现有技术具有使用非常方便,能微量、快速、准确第联合测定不同因子,大大提高一体机的诊断检测效率的优点。

    用于试样的具有发光体的结构的空间高分辨率成像的方法

    公开(公告)号:CN104919303B

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201480004263.8

    申请日:2014-01-09

    Inventor: S·W·黑尔

    Abstract: 一种用于对试样(3)的具有发光体(1)的结构(2)进行空间高分辨率成像的方法,其中,对试样(3)在测量区域(5)中加载荧光激发光(7),荧光激发光将发光体(1)从可激发的电子基态激发到被激发的发光态。并且对试样(3)在测量区域(5)中加载荧光退激发光(8)的具有局部最小处(9)的强度分布,荧光退激发光将发光体(1)从被激发的发光态带回可激发的电子基态。记录从测量区域(5)发射的荧光(10)并且将其对应于所述局部最小处(9)在试样(3)中的位置。在以荧光激发光(7)加载前,对试样(3)在测量区域(5)中加载激发阻抑光(4)的强度分布,激发阻抑光使发光体(1)从可激发的电子基态转换到保护态,在保护态,发光体(1)被保护以免被荧光激发光(7)和荧光退激发光(8)电子激发。激发阻抑光(4)的强度分布具有局部最小处(6),其与荧光退激发光(8)的强度分布的局部最小处(9)重叠。

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