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公开(公告)号：CN104271785A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380021786.9
申请日：2013-04-02
Applicant: 东洋钢钣株式会社
Abstract: 本发明提供一种金属陶瓷覆盖材，该金属陶瓷覆盖材是通过在基材上覆盖金属陶瓷层而成的，其特征在于，在上述金属陶瓷层中，含有Mo2(Ni、Cr)B2型复合硼化物的硬质相占30重量％～80重量％的比例，其余部分由结晶度为15％以上的Ni基合金的粘结相构成。采用本发明能够提供一种具有覆膜的金属陶瓷覆盖材，该覆膜具有优良的耐腐蚀性和耐磨耗性，而且即使暴露在高温中特性的恶化也较小。
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公开(公告)号：CN102893082B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201180022657.2
申请日：2011-06-21
Inventor： 松隈正人
IPC: F21V7/09 , F21S8/02 , F21V7/22 , F21Y101/00 , F21Y101/02
CPC classification number: F21V7/10
Abstract: 本发明提供一种照明器具的反射器。该照明器具的反射器能够容易地利用反射板进行调光操作，能够进行配光控制，不增加耗电就能谋求提高照明器具的照度，构造简单且形状保持性优良。该反射器配置在照明灯的周围，呈内表面镜面状的碗形，具有上下两层以上的不同倾斜角度的周状的倾斜部，其中，上述各倾斜部通过分别将扇形的单个或者多个反射板连结成周状而形成，而且，各倾斜部利用使带板弯曲而形成的固定板被支承固定。
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公开(公告)号：CN103889723A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280051539.9
申请日：2012-10-12
Applicant: 东洋钢钣株式会社
CPC classification number: B32B33/00 , B32B2451/00
Abstract: 提供一种装饰膜，其特征在于，该装饰膜是通过依次层叠基材树脂层、印刷层和表面树脂层而成的；上述表面树脂层具有第1层和第2层，该第1层位于表面侧，由聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂或改性聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂构成，该第2层位于上述印刷层侧，由透明树脂构成，该透明树脂在温度加热到230℃之后，在骤冷却了的情况下利用分光式色差仪测量到的ΔL*值（ΔL*a）与在慢冷却了的情况下利用分光式色差仪测量到的ΔL*值（ΔL*b）之差（|ΔL*a-ΔL*b|）为1.0以下；上述第1层的厚度为3μm～20μm的范围。
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公开(公告)号：CN103649362A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280032782.6
申请日：2012-06-29
Applicant: 东洋钢钣株式会社
CPC classification number: F16L9/165 , C23C10/30 , C23C26/00 , C23C30/00 , C25D3/12 , C25D5/50 , F16L58/08 , H01M2/0262 , H01M2/0292
Abstract: 本发明提供一种表面处理钢板，其是在最外表面形成有铁－镍合金层而成的，其特征在于，上述铁－镍合金层的表面上经俄歇电子能谱分析得到的Fe/Ni值在0.3～2.0的范围内。采用本发明，能够提供一种在暴露在汽车用的燃料油等各种燃料中的情况下，能够有效抑制点蚀的产生且具有优异的耐腐蚀性的表面处理钢板。
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公开(公告)号：CN102473487B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201080031124.6
申请日：2010-07-07
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 东洋钢钣株式会社
CPC classification number: H01B12/06 , H01L39/2461 , Y02E40/642 , Y10T428/12458 , Y10T428/12611 , Y10T428/12903
Abstract: 本发明公开了衬底(1)，所述衬底(1)包含：铜层(2)；在所述铜层(2)上形成并且包含铜和镍的合金层(3)；在所述合金层(3)上形成的镍层(4)；以及在所述镍层(4)上形成的中间层(5)。在所述合金层(3)和所述铜层(2)之间的界面处的所述合金层(3)的镍浓度小于在所述合金层(3)和所述镍层(4)之间的界面处的所述合金层(3)的镍浓度。根据本发明可以提供：使得能够减少超导线材(7)的交流电损失的衬底(1)；制造衬底(1)的方法；超导线材(7)；和制造超导线材(7)的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102209995B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN200980144783.8
申请日：2009-11-11
Applicant: 东洋钢钣株式会社 , 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L39/2454 , Y10T29/49014
Abstract: 本发明的课题在于廉价地提供一种氧化物超导线材用金属叠层衬底，其为高强度且在长度方向具有稳定的高度双轴定向。作为其解决手段，将厚度为0.2mm以下的非磁性的金属板T1、和由以90％的压下率冷轧而成的厚度为50μm以下的Cu合金构成的金属箔T2，通过常温表面活性化接合进行层叠，层叠之后，通过150℃以上1000℃以下的热处理使所述金属箔进行结晶定向之后，在所述金属箔上层叠厚度为10μm以下的Ni或Ni合金的外延生长膜T3，制造氧化物超导线材用金属叠层衬底。
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公开(公告)号：CN103238184A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201180058545.2
申请日：2011-10-04
Applicant: 东洋钢钣株式会社
Inventor： 迎展彰
CPC classification number: G11B5/8404 , C23C18/1651 , C23C18/1844 , C23C18/36 , G11B5/858
Abstract: 本发明提供了用于生产硬盘基材的方法以及这样的硬盘基材，所述方法能够获得具有通过无电NiP电镀的平滑表面且对酸腐蚀的抗性不会劣化的电镀层。所述方法用于生产本发明的硬盘基材，其中基材具有无电NiP电镀层。所述方法包括：第一电镀步骤，通过将基材浸没在包含具有平滑效果的添加剂的第一无电NiP电镀浴中以在所述基材的表面上形成无电NiP电镀层的下层，所述下层具有小于所述基材的表面的平均表面粗糙度的平均表面粗糙度；和第二电镀步骤，通过将在第一电镀步骤中形成有所述无电NiP电镀层的下层的基材浸没在第二无电NiP电镀浴中以形成无电NiP电镀层的上层，所述上层具有对酸腐蚀的抗性。由此，获得对酸腐蚀的抗性不会劣化的具有平滑表面的电镀膜。
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公开(公告)号：CN103154709A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180045814.1
申请日：2011-11-09
Applicant: 东洋钢钣株式会社
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G01N21/8901 , G01N21/94
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够检查在板材的表面的侧端部附近的污垢、伤痕、电镀不良、异物附着等的板材检查方法以及板材检查装置。本发明从板材W的表面侧照射反射用的照明光，并且从板材W的背面侧照射背光用的照明光，并且利用摄像部4对包含板材W的表面和比板材W的侧端部更靠外侧的部分的范围S进行摄像。然后，基于此影像，测定在板材W的表面反射的反射光12的光量和比板材W的侧端部Wb更靠外侧的部分的背光11的光量，并且为了使这两个光量变成在同一且预先设定的范围的光量，调节反射用的照明光和背光用的照明光的光量。然后，在光量已调节的状态，对包含板材W的表面和比板材W的侧端部Wb更靠外侧的部分的范围进行摄像，基于此摄像的影像检查板材W的缺陷。
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公开(公告)号：CN103119424A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201180046006.7
申请日：2011-11-14
Applicant: 东洋钢钣株式会社
CPC classification number: G01N21/94 , G01N21/8901
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够正确检查在多孔板的表面的污垢、伤痕、电镀不良、异物附着等的多孔板表面检查方法以及装置。本发明从多孔板W的表面侧照射反射用的照明光，并且从多孔板W的背面侧照射背光用的照明光，利用摄像部4对多孔板W的表面Wa进行摄像。然后，基于此影像，测定在多孔板W的表面Wa反射的反射光12的光量和透过多孔板W的透孔部Wc的透过光11的光量，为了使这两个光量相同并且在事先设定的范围内，调节反射用的照明光和背光用的照明光的光量。然后，在光量已调节的状态，对多孔板W的表面Wa进行摄像，基于此摄像的影像检查多孔板W的表面Wa的缺陷。
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公开(公告)号：CN103080292A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040073.8
申请日：2011-07-19
CPC classification number: C11D17/0013 , B24B37/04 , C09G1/02 , C11D3/124 , C11D3/14 , C11D7/20 , C11D11/0041 , G11B5/8404
Abstract: 提供了用于生产其中不残留磨料粒并且在其表面上不形成凹坑缺陷的硬盘基材的冲洗剂；以及利用该冲洗剂生产硬盘基材的方法。该冲洗剂是含有胶态二氧化硅作为磨料粒的冲洗溶液，其中胶态二氧化硅磨料粒的浓度(C)和胶态二氧化硅磨料粒的平均粒径(R)(C和R分别由wt％和nm表示)具有满足以下式(1)的关系：R≥2.2C+18.2。
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