公开(公告)号：CN101336263A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200680051866.9

申请日：2006-12-01

Applicant: 大阪瓦斯株式会社 ,  长濑化成株式会社

Inventor： 阪本浩规 ,  村濑裕明 ,  藤木刚 ,  大泽新吾 ,  森田贵之 ,  细见哲也 ,  青木畅章

IPC: C08G77/60 ,  C08L83/16

CPC classification number: C08G77/60 ,  C08L83/16 ,  C09D183/16

Abstract: 公开了通过以下方法获得具有优异功能性(例如在溶剂中的溶解性和反应性)的聚硅烷：通过具有Si－H键的二卤硅烷的反应将下式(1)结构单元引入聚硅烷中，使可氢化硅烷化的化合物(例如具有碳碳不饱和键的化合物)添加至Si－H键。在式(1)中，R1代表氢原子、有机基团或甲硅烷基，n代表不小于1的整数。

公开(公告)号：CN101309965A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042884.0

申请日：2006-11-02

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 森田贵之 ,  千种康男 ,  宫西恭子

IPC: C08L65/00 ,  C08J7/04 ,  C08L101/12 ,  H01B1/20 ,  H01B5/14 ,  H01H13/712

CPC classification number: C08L101/12 ,  C08L65/00 ,  H01B1/20 ,  H01G11/48 ,  H01H2201/036 ,  Y02E60/13 ,  C08L2666/02

Abstract: 本发明提供一种导电性树脂组合物，其为含有聚(3，4－二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的导电性树脂组合物，该复合体的电导率为0.30S/cm以上。该组合物适于以该组合物为导电层的导电性膜的制造，该导电性膜适用于电阻膜式开关。

公开(公告)号：CN101309949A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042824.9

申请日：2006-10-06

Applicant: 长濑化成株式会社 ,  H.C.世泰科有限公司

Inventor： 森田贵之 ,  千种康男 ,  宫西恭子 ,  S·基希梅尔 ,  W·勒韦尼希

IPC: C08G61/12 ,  C08L25/18 ,  C08L65/00

CPC classification number: C08J3/05 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/794 ,  C08J2365/00 ,  C08L25/18 ,  C08L65/00 ,  C09D125/18 ,  H01B1/127 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  H01L51/0037 ,  Y02E60/13 ,  C08L2666/02

Abstract: 本发明提供能够形成透明性和导电性优异的导电性薄膜的、含有导电性聚合物成分的水分散体的制造方法，和由该方法得到的水分散体。上述方法包括如下工序：在聚阴离子的存在下，使用氧化剂，使3，4－二烷氧基噻吩在水系溶剂中聚合，在该工序中，上述氧化剂通过在反应液中滴加含有该氧化剂的溶液或分散液而添加，或者在该聚合工序中，反应液中的碱金属离子浓度保持在400ppm以下。

公开(公告)号：CN1973245A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200580020810.2

申请日：2005-06-21

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 池崎洋次 ,  山田达也 ,  西岛佳孝

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/022 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0236 ,  G03F7/022 ,  G03F7/095 ,  H01L21/0272

Abstract: 本发明提供一种有机膜组合物以及抗蚀剂图案形成方法，所述有机膜组合物为下层用有机膜组合物，该组合物在2层光致抗蚀剂处理中能够形成优异的侧凹形状而不会产生上层抗蚀剂和下层膜的混杂层，实用性较高。更详细地说，本发明提供下述的下层有机膜组合物以及使用该下层有机膜组合物的抗蚀剂图案形成方法，所述下层有机膜组合物用于在基板上形成具有侧凹形状的抗蚀剂图案，所述抗蚀剂图案是通过使形成于基板上的下层有机膜和上层正型光致抗蚀剂膜这2层有机膜隔着掩模进行曝光并显影而形成的，其中，所述组合物含有碱可溶性树脂(A)和溶剂(B)，所述碱可溶性树脂(A)是通过使下述(A1)的酚成分与(A2)的醛成分进行缩合而成的，所述(A1)的酚成分为3－甲基苯酚和4－甲基苯酚的混合物，所述(A2)的醛成分含有芳香族醛和甲醛。

公开(公告)号：CN1934263A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200580008537.1

申请日：2005-03-18

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 刘晓丽 ,  谷胁成幸

IPC: C12P9/00 ,  C12N9/16

CPC classification number: C07F9/103 ,  C07F9/091 ,  C07F9/106 ,  C12N9/16 ,  C12P7/6418 ,  C12P7/6481

Abstract: 本发明提供一种从磷脂的水解反应或碱交换反应中使用的酶反应液中除去酶的方法。本发明的方法包括：利用含有无机金属盐的、水和有机溶剂的混合溶剂对该酶反应液进行处理，将该酶除去的工序。根据本发明，可以不使用加热等方法而简单地除去反应生成物中含有的酶，所以，可容易地制造引起变态反应的可能性降低、维持为高品质、并且保存稳定性优异的各种磷脂。

公开(公告)号：CN1875326A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480032334.1

申请日：2004-10-28

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 西岛佳孝 ,  松本昌岳 ,  安江秀国 ,  武井瑞树

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: C11D7/3263 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂剥离用组合物，该组合物包含具有羟基的有机伯胺或有机仲胺与碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、γ－丁内酯、1，3－二羟基－2－丙酮、或一元或二元羧酸的反应产物，该组合物根据需要还可包含有机胺、水溶性有机溶剂和/或水。该组合物能够高性能地剥离光致抗蚀剂并可防止金属配线材料的腐蚀。通过使用该组合物，在剥离之后以水冲洗的过程中不会产生诸如不溶物析出并粘附至基板等问题。