晶体管和包括该晶体管的显示装置

    公开(公告)号:CN104425611A

    公开(公告)日:2015-03-18

    申请号:CN201410182596.1

    申请日:2014-04-30

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L29/1033 H01L29/66969 H01L29/78696

    Abstract: 提供了晶体管和包括该晶体管的显示装置。该晶体管可以包括具有多层结构的沟道层。沟道层可包括第一层和第二层,该第一层和第二层包括具有各自浓度的多个元素中的至少一个,该第一层可以比第二层更靠近栅极设置。由于元素和元素各自的浓度的组合,所以第二层可具有比第一层的电阻高的电阻。第一层和第二层中的至少一个可包括包含锌、氧和氮的半导体材料。替代地,第一层和第二层中的至少一个可包括包含锌氟氮化物的半导体材料。第二层的氧含量可以高于第一层的氧含量。第二层的氟含量可以高于第一层的氟含量。

    光电集成电路
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104022134A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201410044819.8

    申请日:2014-02-07

    Inventor: 赵成豪

    Abstract: 本发明提供了一种光电集成电路。光电集成电路可以包括形成在基板的密封空间中的光子元件和形成在基板上的电子元件。基板可以包括接合到彼此的第一基板和第二基板。第一基板具有对应于形成在其中的密封空间的第一沟槽,第二基板的第一表面具有形成在其上的光子元件,密封空间由形成在第一沟槽内并由第二基板的第一表面密封的空间限定。

    光电集成电路基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN102931146A

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201210060462.3

    申请日:2012-03-09

    Inventor: 赵成豪

    CPC classification number: H01L27/1463 H01L21/76243 H01L27/14689

    Abstract: 一种光电集成电路基板及其制造方法,所述光电集成电路基板包括光学装置区和电子装置区,光学装置区和电子装置区的每个包括掩埋绝缘层,所述掩埋绝缘层具有彼此不同的厚度。与电子装置区的掩埋绝缘层相比,光学装置区的掩埋绝缘层形成在较大的深度处并具有较大的厚度。微机电系统(MEMS)结构可以形成在没有掩埋绝缘层的区域中。

    包括石墨烯的光学调制器
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103064200B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201210397252.3

    申请日:2012-10-18

    Inventor: 赵成豪 郑现钟

    CPC classification number: G02F1/025 G02F2001/0156 G02F2202/02

    Abstract: 本发明提供一种包括石墨烯的光学调制器,该光学调制器包括:第一石墨烯和第二石墨烯,在半导体层的上表面上;第一电极,在第一石墨烯上;以及第二电极,在第二石墨烯上。第一石墨烯和第二石墨烯各自的侧表面彼此分离。半导体层的第一脊部和第二石墨烯上的第二脊部构成光波导,且第一和第二石墨烯在垂直于半导体层的方向上位于光波导的中心部分。

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