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公开(公告)号：CN101678976A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880017613.9
申请日：2008-03-25
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C25D7/0614 , C25D5/06 , Y10T428/31681
Abstract: 一种连结板的压接方法，在移动的连结板上压接第一带状环状体，该第一带状环状体使接触面与至少一个所述连结板的移动一致地旋转，其中，对于所述第一带状环状体的所述接触面，给予压接到所述连结板侧的面状压力。
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公开(公告)号：CN101522396A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036414.8
申请日：2007-09-28
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: B29C43/021 , B29C33/08 , B29C43/00 , B29C43/003 , B29C43/36 , B29C59/022 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29K2105/256
Abstract: 本发明的目的是提供一种片材的制造方法和制造装置，在对片状基体材料和具有微细凹凸形状的模具进行加热，使二者接触并加压从而将微细凹凸形状赋形于片状基体材料表面时，可避免转印面将空气挤入模具与片状基体材料之间而导致转印不良的发生，从而能够制造出在表面成形有希望的微细凹凸形状的片材。本发明是一种对片状基体材料和具有微细凹凸形状的模具进行加热，使二者接触并加压从而将所述微细凹凸形状赋形于所述片状基体材料表面的微细形状转印片的制造方法和制造装置，其中，使由一对加压板和模具之中的至少一个或者它们的组合构成的赋形面的平面性变化来进行赋形，所述一对加压板设置成对所述片状基体材料以及模具进行加压。
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公开(公告)号：CN103459661A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016136.0
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0068 , C23C14/562 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3321 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种等离子体CVD装置，是在真空容器内具备主辊和等离子体产生电极，在将长条基材沿着上述主辊的表面输送的同时，在上述长条基材的表面形成薄膜的真空成膜装置，其中，以包围由上述主辊和上述等离子体产生电极夹着的成膜空间的方式，隔着上述成膜空间地在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧，各设置至少一个沿上述长条基材的宽度方向延伸的侧壁，上述侧壁与上述等离子体产生电极电绝缘，在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧中的任一侧的侧壁上，具备1列以上的沿上述长条基材的宽度方向呈一列排列的多个气体供给孔所形成的气体供给孔列。
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公开(公告)号：CN101970210B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200980109018.2
申请日：2009-03-06
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: B29C59/04 , B29C31/004 , B29C31/08 , B29C43/021 , B29C43/34 , B29C59/02 , B29C2043/023 , B29C2043/3422 , B29C2043/3602 , B29K2105/256 , B29K2883/005 , B29L2011/00
Abstract: 本发明提供制造膜的方法，在将被处理膜从上游侧间歇地供给到具有微细的凹凸图案的模具表面的附近之后，通过将上述膜按压于上述模具表面来将上述图案转印到上述膜的表面，将结束了图案成形的处理过的膜从上述模具表面剥离，接着将新的被处理膜供给到上述模具，从而间歇地依次制造具有上述图案的膜，在该方法中，通过把持上述处理过的膜并且使其向上述上游侧移动，将上述处理过的膜从上述模具表面剥离，然后，将间歇进给长度量的被处理膜在防止褶皱产生的同时供给到上述模具表面。作为把持膜的机构，使用主辊和与该主辊平行地配置的辅助辊。作为防止褶皱的产生的机构，使用上述主辊或者使用与该主辊隔开间隔地平行配置的褶皱展平辊。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100522557C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200580017587.6
申请日：2005-05-26
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: B29C47/0021 , B29C47/065 , B29C47/145 , B29C47/702
Abstract: 一种液体流的合流装置，具有第1合流形成装置，该第1合流形成装置具有设有待合流的2个液体流各自通过的多个狭缝的单元A、和设有第1合流部的单元B，所述第1合流部将通过各液体流从多个狭缝通过而形成的多个的层状液体流合流成层状，形成第1层状液体流，并且，单元A独立地装备2个以上，单元B独立地装备2个以上。
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公开(公告)号：CN1188516A
公开(公告)日：1998-07-22
申请号：CN97190293.3
申请日：1997-03-27
Applicant: 东丽株式会社
Inventor： 野村文保
IPC: C23C14/56
Abstract: 本发明的目的是提供一种用比较小的生产设备就可以以良好的效率连续地制造防反射滤光片等的大型带薄膜基板的带薄膜基板的制造方法和制造装置。为了达到上述目的的本发明,提供下述的一种带薄膜的基板的制造方法:在成膜区域的前后,设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室,在该成膜室的前后,分别设有具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室,在该成膜室中成膜对象基板正在成膜期间,把下一成膜对象基板组送入投入室,先排好气,同时,把前次成膜完毕的成膜对象基板组从取出室内取出来,其特征是,边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之形成膜。作为用来实施这种带薄膜的基板的制造方法的装置,提供一种带薄膜的基板的制造装置,其特征是具有:在成膜区域的前后,具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室;在该成膜室的前后,分别具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室;该成膜室、该投入室和该取出室分别独立地具有可排气的排气装置;该成膜室具有成膜粒子产生源、使该成膜对象基板通过成膜区域的装置和把该成膜对象基板组从第1储料室中顺次取出到该通过装置中去,并从该通过装置中取入到第2储料室中去的装置。本发明的带薄膜基板的制造方法,是一种连续地以良好的效率生产制造大型的带薄膜基板的制造方法,具有成膜区域无浪费、比现有的方法高数倍的生产率,且制造成本可以非常低的特征。
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公开(公告)号：CN111836685B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN201980017882.3
申请日：2019-02-22
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 获得从气体喷出面喷出的气体的流速沿着喷嘴长度方向均匀的气体喷出喷嘴。本发明的气体喷出喷嘴具有以与树脂膜相对的侧面作为气体喷出面的壳体、沿着喷嘴长度方向供给气体的气体供给口、和从气体供给口连通至气体喷出面的1个以上的均压室，至少1个均压室的气体喷出面一侧的面由隔板构成，并且在隔板上表面沿着喷嘴长度方向配置有两端具有开口的多个筒状体，所述多个筒状体被配置成各筒状体的轴方向与喷嘴长度方向正交，筒状体的从隔板立起的接近气体供给口一侧的壁面与隔板所形成的角θ为规定范围内，在筒状体的与隔板接触的面上以还贯通隔板的孔的形态设有气体流通孔。
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公开(公告)号：CN105051252A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015410.1
申请日：2014-03-07
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/509 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: C23C16/509 , B05D1/62 , C23C16/45574 , C23C16/50 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J37/34 , H01J2237/3321
Abstract: 本发明是一种等离子体CVD装置，其包括：真空容器、和在真空容器内的等离子体CVD电极单元和基材保持机构，所述等离子体CVD电极单元包括：阳极；阴极，其与所述阳极隔开间隔地对置；第一气体供给喷嘴，其以气体通过所述阳极和阴极之间的等离子体生成空间的方式供给气体，基材保持机构配置于通过等离子体生成空间后的气体所触碰的位置，阳极在气体供给方向上的长度及阴极在气体供给方向上的长度均比阳极和阴极之间的距离长。根据本发明，提供一种能提高气体的分解效率、实现高成膜速度的等离子体CVD装置。
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公开(公告)号：CN102905875B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201180026158.0
申请日：2011-05-26
CPC classification number: B29C59/022 , B29C37/0007 , B29C37/0014 , B29C2059/023
Abstract: 包含以下工序的具有微细表面结构的膜的制造方法和装置:向表面形成有正交的两方向的槽的模具间歇性地膜的工序、使膜接触并按压到模具上，在膜表面上成型出与模具的表面的形状对应的形状的工序和将贴附在模具的表面上的成型后的膜剥离开的脱模工序，其特征在于，模具的槽的彼此正交的两方向与膜的移送方向和宽度方向基本相同，脱模工序中的膜的剥离方向相对膜的移送方向成15度~75度的角度。在将模具的表面的微细结构转印到膜表面上进行成型、成型后脱模、移送之际，能够抑制脱模造成缺失和收率降低。
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