公开(公告)号：CN1294788C

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN98812075.5

申请日：1998-11-30

Applicant: 伊比登株式会社

Inventor： 平松靖二 ,  浅井元雄 ,  广濑直宏 ,  苅谷隆

IPC: H05K3/46

CPC classification number: H05K3/4679 ,  H05K1/0269 ,  H05K3/0008 ,  H05K3/0035 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/421 ,  H05K3/4652 ,  H05K3/4655 ,  H05K2201/09781 ,  H05K2201/09918 ,  H05K2203/0554 ,  Y10S430/146 ,  Y10T29/49004 ,  Y10T29/49082 ,  Y10T29/49085 ,  Y10T29/49117 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/49156 ,  Y10T29/49165

Abstract: 在衬底(20)上设置成为保形掩模的铜膜(30)，在该铜膜上形成通路孔形成用开口(30a)以及对位标记(30b)。用照相机(82)测定该对位标记(30b)的位置，检测衬底(30)的位置，通过大致在开口(30a)的位置上照射激光，设置通路孔用开口(26a)。通路孔的开口位置精度由于取决于保形掩模的铜膜(30)的开口(30a)的位置精度，所以纵使激光照射位置精度降低也能在适当位置形成通路孔。