公开(公告)号：CN107210218B

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN201680006272.X

申请日：2016-01-26

Applicant: 株式会社国际电气

Inventor： 山崎惠信 ,  村田慧 ,  森田慎也

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/42 ,  C23C16/44 ,  H01L21/02 ,  H01L21/318

Abstract: 课题在于抑制炉口部周围的副产物的附着。具有：反应管，其在内部具有处理衬底的衬底处理区域；以及炉口部，其配置于反应管的下部，反应管具有：突出部，其向反应管的下方的外周侧突出；以及延伸部，其从反应管的下端向下方延伸，比与衬底处理区域对应的位置处的反应管的厚度形成得更厚，覆盖炉口部的内周面。

公开(公告)号：CN215869283U

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202122181133.1

申请日：2021-09-09

Applicant: 株式会社国际电气

Inventor： 森田慎也 ,  中嶋诚世 ,  村田慧

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/54 ,  C23C16/50 ,  C23C16/458 ,  H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置用遮蔽件，设置于基板处理装置的反应管的底部，防止从缓冲室供给的等离子体沿着相反侧的反应管的内表面向下流动而被排气，由此，能够改善晶舟的上下的基板处理的均匀性，并且，遮蔽加热器的辐射热，抑制与炉口部空间之间的气体的出入，能够提高炉口部的隔热性。该基板处理装置用遮蔽件具备：圆弧状的底板；从上述底板直立的多个支柱；以及由上述多个支柱沿垂直方向以多层支承的圆弧状的多个隔断板。

公开(公告)号：CN218299750U

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202090000433.6

申请日：2020-02-21

Applicant: 株式会社国际电气(JP)

Inventor： 藏田智之 ,  森田慎也 ,  平野敦士 ,  村田慧 ,  冈田裕巳

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

Abstract: 即使在使反应管内的部件由石英等非金属制部件构成的情况下，也能够抑制非金属制部件的破损。具备：气体供给喷管，其经由反应管的开口部向构成于反应管内部的处理室供给处理气体；第1密封材料，其设为至少将开口部与气体供给喷管的间隙覆盖；保持部件，其与反应管连接；转接头，其从反应管的外侧经由保持部件而连接；第1固定件，其以开口部、保持部件与转接头配置在同心圆上的方式进行固定；和第2密封材料，其设为将气体供给喷管、保持部件与转接头之间的空间维持为气密状态。

公开(公告)号：CN305531563S

公开(公告)日：2020-01-03

申请号：CN201930393610.6

申请日：2019-07-23

Applicant: 株式会社国际电气

Designer： 村田慧 ,  森田慎也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板处理装置用气体导入管。
2.本外观设计产品的用途：与在对晶片进行处理的基板处理装置的处理室内配置的气体供给喷管连接而使用，用于向该气体供给喷管导入气体。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。

公开(公告)号：CN307244983S

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN202130622282.X

申请日：2021-09-18

Applicant: 株式会社国际电气

Designer： 森田慎也 ,  中嶋诚世 ,  村田慧

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板处理装置用绝热板。
2.本外观设计产品的用途：在对晶片进行处理的基板处理装置中配置于晶片舟皿的下方而隔绝来自加热器的辐射热。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。

公开(公告)号：CN307120587S

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202130597183.0

申请日：2021-09-09

Applicant: 株式会社国际电气

Designer： 森田慎也 ,  中嶋诚世 ,  村田慧

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板处理装置用遮蔽件。
2.本外观设计产品的用途：设置于基板处理装置的炉口部来遮蔽在处理室内产生的气体或热能的流动。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。