一种低相噪蓝宝石微波振荡器

    公开(公告)号:CN104935291A

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201510357893.X

    申请日:2015-06-25

    Abstract: 本发明公开一种低相噪蓝宝石微波振荡器,包括:混频器、低通滤波器、功率探测器、积分电路、压控移相器、手动移相器、微波放大器、功率耦合器、微波环行器、蓝宝石滤波器、温度控制电路,其中蓝宝石滤波器包括:真空罩、加热丝13、金属屏蔽腔、蓝宝石晶体、真空维持组件。本发明的微波振荡器,能够在室温下获得稳定、低相噪的高频微波信号,其在中远端的相噪远远高于通过晶振倍频所到达的指标。

    用于氢原子频标用微波腔及降低微波腔温度系数的方法

    公开(公告)号:CN103515171A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201210201651.8

    申请日:2012-06-15

    Abstract: 本发明涉及一种用于氢原子频标用微波腔及降低微波腔温度系数的方法,该微波腔包括,叶片、支柱、腔体、腔盖,所述腔体的上下端分别设置有腔盖,所述腔体内设置有叶片,该叶片通过所述支柱与腔体连接。该微波腔由分体部分组合而成,加工简单,成本低,表面抛光精度高,能获得较高的Q值,同时兼具磁控管微波腔良好的力学稳定性和开槽腔的频率调谐方便等优点,比同等体积的磁控管微波腔的重量更小,无载Q值高约10%。

    用于超导稳频振荡器的超导谐振腔的内表面处理方法

    公开(公告)号:CN103457567A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310418599.6

    申请日:2013-09-13

    Abstract: 本发明公开了一种用于超导稳频振荡器的超导谐振腔的内表面处理方法,包括如下步骤:离心式滚磨抛光,离心式滚磨抛光的时间为10-15天;低温退火,低温退火的温度为750℃,低温退火的时间为2-5小时;高温退火,高温退火的温度为1400-1500℃,高温退火的时间为24-32小时;化学抛光,化学抛光的时间为20-40分钟;电抛光;高压水冲洗,高压水冲洗的时间为40-120小时;低温烘烤,低温烘烤的温度为70-80℃,低温烘烤的时间为3-7天。所述方法能够有效地消除因电子束焊接引起的超导谐振腔内表面的凸起,从而提高超导谐振腔的Q值,当超导谐振腔的频率为9GHz时,其Q值高达109。

    提高超快激光放大器脉冲能量稳定性的装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN102751655A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201210199736.7

    申请日:2012-06-14

    Abstract: 本发明涉及一种提高超快激光放大器脉冲能量稳定性的装置,该装置包括激光振荡器、信号发生器、选单控制器、泵浦激光器和激光放大器,该装置还包括与信号发生器、泵浦激光器和激光放大器连接的反馈控制器,用于实时监测激光放大器的脉冲能量,输出反馈信号来调节激光放大器激光腔的起振时刻相对于泵浦激光脉冲的延时。本发明无需改动放大器系统内的任何光路,只需用电路控制延时即可实现对放大激光脉冲能量的控制,实现起来简单易行且性能可靠。

    一种可调制量子选态系统
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102610356A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210050608.6

    申请日:2012-02-29

    Abstract: 本发明公开了一种可调制量子选态系统,该系统包括磁透镜(1)、波纹管(2)、调节螺杆(3)、准直器(4)、原子源(5)、真空管接口(6)、原子检测系统(7)、限流管(8)、第一支撑件(9)和第二支撑件(10)。本发明提供的可调制量子选态系统不需要破坏真空,也不需要重新准直,量子选态效率高,使用方便,可以在实验和工程上达到很好的效果。应用所述系统能够将氢原子的量子选态效率提高20%。

    一种漫反射激光冷却装置
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112768105B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202011405398.9

    申请日:2020-12-03

    Abstract: 本发明公开一种漫反射激光冷却装置,涉及漫反射光场的微波腔技术领域,以解决现有漫反射光场的微波腔漫反射光场分布合理化低和利用率低的问题。所述一种漫反射激光冷却装置,其特征在于,包括微波腔体、冷原子团以及镀银层;所述镀银层设置在所述微波腔体的内壁上,所述冷原子团设置在所述微波腔体的中部,所述微波腔体的顶部设置有两个第一冷却光注光孔,所述微波腔体的底部设置有两个第二冷却光注光孔,两个所述第一冷却光注光孔间的连线与两个所述第二冷却光注光孔间的连线垂直。本发明用于提供一种微波腔漫反射光场分布合理化高和利用率高的漫反射激光冷却装置。

    一种准直器焊接装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114346531A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202111644679.4

    申请日:2021-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种准直器焊接装置,包括外工装,所述外工装的内部安装有内工装,所述内工装的内部安装有右板、中板和左板,所述右板位于左板的一侧,所述中板位于右板和左板的中间,所述右板和左板的内部均安装有两个导向筒,所述右板和左板的内部通过导向筒安装有固定件一,所述外工装的内部位于内工装的两侧均安装有两个固定件二,所述导向筒的内部开设有螺纹孔,导向筒通过螺纹孔与固定件一连接。本发明所述的一种准直器焊接装置,保证各零件对接部位真空封接同时完成,避免了多次工序造成形位公差的不可控,实现了准直器一次性焊接且能够长期使用,大大提高了准直器组件的成品率,使用寿命长。

    一种氢原子频标真空维持装置

    公开(公告)号:CN110159508B

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN201910470554.0

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明提供的一种氢原子频标的真空维持装置,一方面,装置的重量远低于溅射离子泵的重量,氢原子频标在工作过程中要源源不断的产生大量的氢气,传统氢原子频标采用溅射离子泵来吸收这些氢气,因为泵的体积和重量越大,吸收的氢气总量就越大,产品的使用寿命就越长,所以传统氢原子频标的溅射离子泵重达十几公斤以上,而吸气剂的吸氢容量很大,在吸收相同氢气的条件下,可以极大减轻重量,该新型装置的重量仅为2~3kg。另一方面,溅射离子泵是在高压,磁场的条件下工作,工作一段时间后会不定期出现打火现象,进而会影响整机的指标,本装置是通过物理吸附氢气的,没有电场和磁场的影响,所以能够平稳运行,没有类似打火现象,有利于整机指标的优化。

    一种真空焊接装置和安装、使用方法

    公开(公告)号:CN110711959B

    公开(公告)日:2021-07-20

    申请号:CN201911112000.X

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 本申请公开了一种真空焊接装置和安装、使用方法,其真空焊接装置的底部基座的左侧和右侧上有侧壁调节柱,底部基座上有放置U型结构主体的台面,底部基座上方有顶部压板,顶部压板和底部基座之间通过第一固定件连接固定;侧壁调节柱的上部位于主体U型结构的纵向部分上部的前方,侧壁调节柱的上部分别有前后方向上的调节螺钉;侧壁调节柱外侧的底部基座上连接有磁屏蔽调节螺杆;其保证主体多处关键部位真空封接的同时完成,避免多次工序造成形位公差的不可控;适用于高温真空环境下焊接成组件,保证其关键位置的形位公差,保证铯原子的路径顺畅、不偏移;实现主体一次性焊接且能长期使用,提高腔体组件的成品率。

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