一种射流清洗方法
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108637920B

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201810449022.4

    申请日:2018-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种射流清洗方法,属于工业清洗领域。本方法先给射流清洗装置的罐体内装入清洗砂和清洗液,封闭所述射流清洗装置的出射管路,通过所述气源向所述主体管路内充入高压气体,当所述主体管路内的气压达到第一预设值时,所述主体管路沿所述安装孔抬升,脱离所述进气嘴,所述清洗砂、清洗液与充入的气体在所述罐体内混合;当所述罐体内气压达到第二预设值时,开启所述出射管路,所述清洗砂、清洗液与充入的气体的混合物喷出,进行射流清洗。本发明无需高压水源,极大地降低了清洗能耗;由于气、液、固三相进行了预先混合,使清洗砂在三相混合物中均匀分布,避免了清洗砂集中堆积导致的管路堵塞,提高了装置的使用安全性及使用寿命。

    一种提升射频开关真空环境适应能力的密封结构

    公开(公告)号:CN203574166U

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201320685071.0

    申请日:2013-10-31

    Abstract: 本实用新型涉及微波器件领域,具体涉及一种提升射频开关真空环境适应能力的密封结构。包含:射频开关(1)、密封腔(2)、密封盖(3)、气密型射频转接器(4)、气密型电连接器(5)、导线(9);密封腔(2)为立方体结构,一个侧面为开口结构,采用密封盖(3)密封;在一个底面开有安装气密型射频转接器(4)、气密型电连接器(5)用的台阶孔;射频开关(1)采用螺钉(6)固定于密封腔(2)内,在密封腔(2)内,射频开关(1)与气密型射频转接器(4)直接连接,并且射频开关(1)通过导线(9)与气密型电连接器(5)电连接。本实用新型在真空低气压环境下可承受10W功率,具有优良的温度稳定性。

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