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公开(公告)号：CN113406165B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202110672096.6
申请日：2021-06-17
Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法，涉及一种电化学检测系统及检测方法。检测装置固定在Z向位移台上，X‑Y二维气浮平台上固定三维压电位移台，信号发生器控制激振压电陶瓷环的振动，电容式位移传感器测得激振压电陶瓷环的位移变化经电荷放大器处理后传递给锁相放大器，PID控制器将锁相放大器提取的电压幅值信号运算处理后对压电促动器进行控制，压电促动器、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台为上位机提供实时信号，上位机通过UMAC控制器控制Z向位移台、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台。探针以振动模式接近被测样品表面，减小相互作用力不易损坏，Z向闭环反馈功能保证距离恒定，检测更加准确。
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公开(公告)号：CN113046777B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202110235370.3
申请日：2021-03-03
Applicant: 厦门大学
IPC: C25B11/065 , C25B11/081 , C25B11/089 , C25B11/075 , C25B1/04 , H01M4/90 , H01M4/92 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供一种石墨烯复合材料、其制备方法以及在能源存储和转化中的应用。所述石墨烯复合材料包含催化剂活性中心和石墨烯载体两部分，负载催化剂的石墨烯经过电化学调控，将质子转化为氢原子，存储在石墨烯上，得到氢化石墨稀，并实现室温常压下的储氢。本发明方法制备的石墨烯复合材料通过电化学方法将质子转化为氢原子存储在石墨烯上，不仅可以实现氢能的存储和释放，进行储氢、制氢和制氧，而且可以作为化学电源的负极材料，构筑各种类型的电池。
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公开(公告)号：CN107486601B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201710675817.2
申请日：2017-08-09
Abstract: 一种利用异形电极刀具进行电化学加工的方法，涉及微纳米加工领域。方法是：根据需要加工的特定形貌结构，设计制作异形电极刀具；将异形电极刀具固定于夹具上，再将夹具固定于多维操纵装置的Z方向位移台上；将被加工工件固定于电解池底部，向电解池注入电解液，控制异形电极刀具逼近被加工工件，并利用多维操纵装置的XY方向位移台调整异形电极刀具与被加工工件相对位置；将辅助电极和参比电极浸入电解液中，电化学工作站的工作电极线连接异形电极刀具，启动电化学工作站，产生电化学电流；控制C方向转台使被加工工件进行旋转运动，同时加工进行；加工结束后，被加工工件表面产生要求的形貌结构。本发明用于对工件进行电化学加工。
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公开(公告)号：CN103325674B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310195128.3
申请日：2013-05-23
Applicant: 厦门大学
IPC: H01L21/3063 , B81C1/00 , C25F3/12
Abstract: 本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法，可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构，同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括：弹性模板电极简单微结构的设计与制备，以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构；模板电极上应力屈曲的产生及其控制，以使模板电极可控地产生屈曲形变；屈曲结构的复制，利用约束刻蚀技术使模板电极上屈曲得到的多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。
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公开(公告)号：CN103325674A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310195128.3
申请日：2013-05-23
Applicant: 厦门大学
IPC: H01L21/3063 , B81C1/00 , C25F3/12
Abstract: 本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法，可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构，同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括：弹性模板电极简单微结构的设计与制备，以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构；模板电极上应力屈曲的产生及其控制，以使模板电极可控地产生屈曲形变；屈曲结构的复制，利用约束刻蚀技术使模板电极上屈曲得到的多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101880907A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010219037.5
申请日：2010-07-07
Applicant: 厦门大学
IPC: C25F3/12 , H01L21/3063
CPC classification number: C25F3/14 , C03C15/02 , C25F3/00 , C25F3/12 , C25F7/00 , H01L21/02024 , H01L21/30604 , H01L21/30612 , H01L21/32115 , H01L21/7684
Abstract: 纳米精度的电化学整平和抛光加工方法及其装置，涉及一种电化学刻蚀整平和抛光技术。装置设有具有纳米平整精度的刀具、可将刻蚀整平剂液层厚度精确控制在纳米尺度内的电化学反应控制体系、溶液循环装置、溶液恒温装置和自动化控制系统。制备具有纳米平整精度的刀具作为电化学工作电极，并与工件置于容器底部；刀具浸入溶液，启动电化学系统，在刀具表面生成刻蚀整平剂，将刀具表面刻蚀整平剂液层压缩至纳米量级厚度，再调控刻蚀整平剂液层厚度；驱动三维微驱动装置，将刀具不断地向工件逼近，调控工件表面与刀具之间的距离和平行度；将刀具向工件表面移动，使刀具表面的约束刻蚀整平剂液层与工件表面接触，直至整个工件表面被刻蚀整平和抛光完毕。
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公开(公告)号：CN119897604A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202510210808.0
申请日：2025-02-25
Applicant: 厦门大学
IPC: B23K26/362 , B23K26/064 , B23K26/067 , B23K26/70
Abstract: 本发明提供一种光电化学激光直写刻蚀装置及无掩模刻蚀加工方法，其中光电化学激光直写装置包括激光光源、声光调制器、反射镜、透镜、空间滤波器模组、滤光物镜、二向色镜‑分束镜、聚焦物镜；照明光源、分光镜、工业相机；运动控制器、运动样品台；运动样品台用于放置待刻蚀晶圆；激光光源产生的激光经由第一反射镜、第二反射镜转向后沿第二直线依次通过滤光物镜、空间滤波器模组后，激光经由第三反射镜、第四反射镜后发射至二向色镜‑分束镜，被反射的激光依次通过二向色镜‑分束镜、聚焦物镜，发射至运动样品台上的待刻蚀晶圆。本发明是一种无掩膜、高效率、低成本、操作简便的光电化学激光直写，可以实现对复杂自由曲面微光学元件的制造。
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公开(公告)号：CN113406166B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202110672098.5
申请日：2021-06-17
IPC: G01N27/30 , G01N27/416 , G01B7/02
Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置，涉及一种电化学检测装置。滑槽固定座上竖向滑动安装有滑块并且设有紧固螺栓能够紧固定位，压电促动器竖向固定在滑块上，电容固定器固定在压电促动器底部，调距环与电容固定器下端旋接配合，电容式位移传感器插装在电容固定器内部，锁紧螺钉能够锁紧定位，激振压电陶瓷环固定在调距环底部，柔性铰链夹装固定在上固定环与下固定环之间，边缘固定导电片并连接外接导线，上固定环固定在激振压电陶瓷环底部，定位螺钉安装螺母接头与柔性铰链紧固定位，纳米电极探针固定在螺母接头底部。探针逼近样品表面更加精准安全，并且电容式位移传感器与探针的间距调节方便，保证最佳使用性能。
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公开(公告)号：CN113406165A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110672096.6
申请日：2021-06-17
Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法，涉及一种电化学检测系统及检测方法。检测装置固定在Z向位移台上，X‑Y二维气浮平台上固定三维压电位移台，信号发生器控制激振压电陶瓷环的振动，电容式位移传感器测得激振压电陶瓷环的位移变化经电荷放大器处理后传递给锁相放大器，PID控制器将锁相放大器提取的电压幅值信号运算处理后对压电促动器进行控制，压电促动器、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台为上位机提供实时信号，上位机通过UMAC控制器控制Z向位移台、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台。探针以振动模式接近被测样品表面，减小相互作用力不易损坏，Z向闭环反馈功能保证距离恒定，检测更加准确。
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公开(公告)号：CN109869459B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201910165711.7
申请日：2019-03-06
Applicant: 厦门大学
IPC: F16H47/02 , F16H61/437
Abstract: 一种液压自平衡均压调节装置，涉及机械液压传动。设有液压装置和传动装置，所述液压装置设有手轮、丝杠、大液压缸、五通液压缸和4个小液压缸；所述传动装置设有第一连杆、滑块、滑块导轨、第二连杆、压板推杆、推杆轴套、液体压力计和压板；所述丝杆与手轮固定连接；所述大液压缸和4个小液压缸组成五通液压缸，大液压缸和4个小液压缸与丝杠通过螺纹结构连接；所述第一连杆上端与小液压缸铰接，滑块与第一连杆下端铰接，滑块套设在固定的滑块导轨上，滑块与第二连杆上端相铰接，第二连杆下端与压板推杆上端相铰接，压板推杆套设在固定的推杆轴套内，压板推杆下端与压板铰接，五通液压缸内的液体压强由液体压力计读出。
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