公开(公告)号：CN1287381A

公开(公告)日：2001-03-14

申请号：CN00118744.9

申请日：2000-06-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 冈本达树 ,  小川哲也 ,  古田啟介 ,  时冈秀忠 ,  笹川智宏 ,  西前顺一 ,  井上満悍 ,  佐藤行雄

IPC: H01L21/324 ,  C30B33/02

CPC classification number: B23K26/0732 ,  B23K2101/40 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026

Abstract: 在激光热处理方法中,提供控制形成高性能薄膜用的激光照射剖面的光学系统。在向形成于基板上的膜上照射长方形束的光学系统中,通过用强度分布成形装置使长度方向的强度分布均匀,短边方向保持振荡激光的定向性等向的结构,能在振荡激光性质限制的界限内进行聚光,在基板上的膜上得到最大限度的强度梯度。因此,可在基板上的膜上形成陡峻的温度分布,其结果,可形成高性能薄膜。

公开(公告)号：CN1249483C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN03108378.1

申请日：2003-03-28

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 岡本達樹 ,  森川和敏 ,  佐藤行雄 ,  西前順一 ,  小川哲也

IPC: G02B27/10 ,  G02B27/28 ,  H01L21/324 ,  H01S3/00

Abstract: 激光束均匀照射的光学系统，包括：把来自光源的激光束在空间上分割为分割束的波导；把分割束重合照射在照射面上的重合用透镜；使照射面上的光束强度均匀的延迟板。波导使分割束宽度为激光束截面上的空间干涉距离的1/2倍以上；延迟板使分割出的彼此相邻的分割束间延迟比该激光束的时间的干涉距离还长，减轻照射面上的干涉。另一光学系统包括：把激光束分割为分割束的激光束分割部件；把分割束重合照射在照射面上的重合照射部件；使照射面上的光束强度均匀的均匀化部件。均匀化部件包括：使分割出的彼此相邻的分割束之间延迟比该激光束的时间的干涉距离还长的光学延迟部件，还可包括：使分割出的彼此相邻的分割束之间偏振方向实质上正交的旋光部件。

公开(公告)号：CN1408122A

公开(公告)日：2003-04-02

申请号：CN00816776.1

申请日：2000-10-06

Applicant: 三菱电机株式会社 ,  精工爱普生股份有限公司

Inventor： 小川哲也 ,  时冈秀忠 ,  西前顺一 ,  冈本达树 ,  佐藤行雄 ,  井上满夫 ,  宫坂光敏 ,  次六宽明

IPC: H01L21/20 ,  C23C16/24

Abstract: 一种多晶态硅膜的制造方法，包括下列步骤：在衬底(31)上形成具有第一区(33a)和与该第一区(33a)相接的第二区(33b)的非晶态硅膜(33)的步骤；在上述非晶态硅膜(33)的第一区(33a)上照射波长390nm以上、640nm以下的激光(35)，形成第一多晶态部分(34a)的步骤；以及在上述非晶态硅膜(33)的第二区(33b)和与上述第二区(33b)相接的上述第一多晶态部分(34a)的一部分区域上照射390nm以上、640nm以下的激光(35)，与上述第一多晶态部分(34a)相接地形成第二多晶态部分(34b)的步骤。

公开(公告)号：CN1146027C

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN00118744.9

申请日：2000-06-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 岡本達樹 ,  小川哲也 ,  古田啓介 ,  时岡秀忠 ,  笹川智宏 ,  西前顺一 ,  井上満夫 ,  佐藤行雄

IPC: H01L21/324 ,  C30B33/02 ,  B23K26/06

CPC classification number: B23K26/0732 ,  B23K2101/40 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026

Abstract: 光学系统及其装置和使用该光学系统制造半导体装置的方法。在激光热处理方法中，提供控制形成高性能薄膜用的激光照射剖面的光学系统。在向形成于基板上的膜上照射长方形束的光学系统中，通过用强度分布成形装置使长度方向的强度分布均匀，短边方向保持振荡激光的定向性等向的结构，能在振荡激光性质限制的界限内进行聚光，在基板上的膜上得到最大限度的强度梯度。因此，可在基板上的膜上形成陡峻的温度分布，其结果，可形成高性能薄膜。