公开(公告)号：CN1146027C

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN00118744.9

申请日：2000-06-23

申请人： 三菱电机株式会社

发明人： 岡本達樹 ,  小川哲也 ,  古田啓介 ,  时岡秀忠 ,  笹川智宏 ,  西前顺一 ,  井上満夫 ,  佐藤行雄

IPC分类号： H01L21/324 ,  C30B33/02 ,  B23K26/06

CPC分类号： B23K26/0732 ,  B23K2101/40 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026

摘要： 光学系统及其装置和使用该光学系统制造半导体装置的方法。在激光热处理方法中，提供控制形成高性能薄膜用的激光照射剖面的光学系统。在向形成于基板上的膜上照射长方形束的光学系统中，通过用强度分布成形装置使长度方向的强度分布均匀，短边方向保持振荡激光的定向性等向的结构，能在振荡激光性质限制的界限内进行聚光，在基板上的膜上得到最大限度的强度梯度。因此，可在基板上的膜上形成陡峻的温度分布，其结果，可形成高性能薄膜。