公开(公告)号：CN114373703A

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202210027468.4

申请日：2017-10-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 林度延 ,  元俊皓 ,  严基象 ,  金鹏 ,  朴舟楫

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供用于处理基板的装置和方法。该基板处理装置包括：工艺腔室，该工艺腔室具有上主体和下主体，上主体和下主体彼此组合以在上主体和下主体中提供处理空间；升降构件，该升降构件将上主体和下主体中的任一个升降到打开位置或关闭位置；夹紧构件，夹紧构件夹紧位于关闭位置的上主体和下主体；可动构件，该可动构件将夹紧构件移动到锁定位置或者释放位置；在锁定位置，夹紧构件夹紧上主体和下主体；在释放位置，夹紧构件与上主体和下主体分隔开；以及壳体，该壳体围绕工艺腔室、夹紧构件以及升降构件，且具有上部空间和下部空间，其中工艺腔室和夹紧构件位于上部空间和下部空间中的一个，并且升降构件位于上部空间和下部空间中的另一个。

公开(公告)号：CN107993959B

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN201711014536.9

申请日：2017-10-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 林度延 ,  元俊皓 ,  严基象 ,  金鹏 ,  朴舟楫

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明构思的实施例涉及一种用于在高压气体中处理基板的装置。该装置包括：工艺腔室，该工艺腔室具有上主体和下主体，上主体和下主体彼此组合以在其中提供处理空间；升降构件，该升降构件配置成将上主体和下主体中的任一个升降到打开位置或关闭位置，在打开位置将上主体从下主体分隔开或将下主体从上主体分隔开，在关闭位置将上主体贴合到下主体或将下主体贴合到上主体；夹紧构件，该夹紧构件配置成夹紧位于关闭位置的上主体和下主体；和可动构件，该可动构件配置成将夹紧构件移动到锁定位置或者释放位置，在锁定位置所述夹紧构件夹紧工艺腔室，在释放位置所述夹紧构件与工艺腔室分隔开。

公开(公告)号：CN112992726A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011458403.2

申请日：2020-12-11

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 高定奭 ,  李在晟 ,  林度延 ,  金局生 ,  郑暎大 ,  金泰信 ,  李智暎 ,  金源根 ,  郑智训 ,  金光燮 ,  许弼覠 ,  史允基 ,  延蕊林 ,  尹铉 ,  金度延 ,  徐溶晙 ,  金昺槿 ,  严永堤

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。