公开(公告)号：CN110364416B

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN201910261070.5

申请日：2019-04-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 曹美英 ,  金多情 ,  延蕊林 ,  丘峻宅

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

摘要： 本发明涉及一种基板清洗方法，包括：向基板提供在溶剂中包含热敏性高分子树脂的液状清洗液的步骤；通过第一热处理将液状清洗液进行相转变而凝胶化，以捕获颗粒的步骤；通过第二热处理将被捕获的颗粒的凝胶状的清洗液进行相转变而液化的步骤；及，提供冲洗液去除相转变为液状的清洗液的步骤。

公开(公告)号：CN109244000B

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN201810752460.8

申请日：2018-07-10

申请人： 细美事有限公司

发明人： 李梦龙 ,  曹美英 ,  延蕊林 ,  A·科里阿金

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 公开了一种基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理方法包括将含有单体物质的处理液涂覆到要清洁的基板上，通过向处理液照射光并使单体物质聚合以将处理液固化为清洁膜，并去除清洁膜。

公开(公告)号：CN112750721B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202011109697.8

申请日：2020-10-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑暎大 ,  金源根 ,  李智暎 ,  郑智训 ,  金泰信 ,  高定奭 ,  崔成彬 ,  延蕊林

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/311

摘要： 公开一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的实施例的基板处理装置的特征在于，包括：基板支承单元；药液供应单元，用于将药液供应于被所述基板支承单元支承的基板上面；激光照射单元，用于将激光照射于基板而加热基板；以及控制部，控制成激光照射单元照射激光脉冲，从而反复加热及冷却基板。

公开(公告)号：CN109411389B

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN201810934866.8

申请日：2018-08-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 赵旼熙 ,  刘在赫 ,  吴世勋 ,  金兑根 ,  延蕊林 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 公开涉及一种用于将清洁液供应到基板的装置。清洁液供应单元包括：混合容器，在其内部具有液体混合空间；第一供应构件，其被构造成将第一液体供应到液体混合空间中；第二供应构件，其被构造成将不同于第一液体的第二液体供应到液体混合空间中；以及混合构件，其被构造成将供应到液体混合空间中的第一液体和第二液体进行混合，并且混合构件可包括：循环管线，供在液体混合空间中的液体循环；和压力调节构件，其被构造成向液体提供压力，使得液体混合空间中的液体流入循环管线中，并且被构造成调节压力。

公开(公告)号：CN110120358A

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201910034834.7

申请日：2019-01-15

申请人： 三星电子株式会社 ,  细美事有限公司

发明人： 朴美贤 ,  吴政玟 ,  金伶厚 ,  李晓山 ,  金兑根 ,  延蕊林 ,  吴海琳 ,  郑址洙 ,  赵旼熙

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02

摘要： 公开了清洁组合物、清洁装置和制造半导体器件的方法，清洁组合物包括：表面活性剂；去离子水；以及有机溶剂，其中，表面活性剂以约0.28M至约0.39M的浓度或约0.01至约0.017的摩尔分数包括在清洁组合物中，其中，有机溶剂以约7.1M至约7.5M的浓度或约0.27至约0.35的摩尔分数包括在清洁组合物中。

公开(公告)号：CN112992726A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011458403.2

申请日：2020-12-11

申请人： 细美事有限公司

发明人： 高定奭 ,  李在晟 ,  林度延 ,  金局生 ,  郑暎大 ,  金泰信 ,  李智暎 ,  金源根 ,  郑智训 ,  金光燮 ,  许弼覠 ,  史允基 ,  延蕊林 ,  尹铉 ,  金度延 ,  徐溶晙 ,  金昺槿 ,  严永堤

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/306

摘要： 本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。

公开(公告)号：CN112992726B

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202011458403.2

申请日：2020-12-11

申请人： 细美事有限公司

发明人： 高定奭 ,  李在晟 ,  林度延 ,  金局生 ,  郑暎大 ,  金泰信 ,  李智暎 ,  金源根 ,  郑智训 ,  金光燮 ,  许弼覠 ,  史允基 ,  延蕊林 ,  尹铉 ,  金度延 ,  徐溶晙 ,  金昺槿 ,  严永堤

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/306

摘要： 本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。

公开(公告)号：CN112750721A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202011109697.8

申请日：2020-10-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑暎大 ,  金源根 ,  李智暎 ,  郑智训 ,  金泰信 ,  高定奭 ,  崔成彬 ,  延蕊林

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/311

摘要： 公开一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的实施例的基板处理装置的特征在于，包括：基板支承单元；药液供应单元，用于将药液供应于被所述基板支承单元支承的基板上面；激光照射单元，用于将激光照射于基板而加热基板；以及控制部，控制成激光照射单元照射激光脉冲，从而反复加热及冷却基板。

公开(公告)号：CN110364416A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201910261070.5

申请日：2019-04-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 曹美英 ,  金多情 ,  延蕊林 ,  丘峻宅

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

摘要： 本发明涉及一种基板清洗方法，包括：向基板提供在溶剂中包含热敏性高分子树脂的液状清洗液的步骤；通过第一热处理将液状清洗液进行相转变而凝胶化，以捕获颗粒的步骤；通过第二热处理将被捕获的颗粒的凝胶状的清洗液进行相转变而液化的步骤；及，提供冲洗液去除相转变为液状的清洗液的步骤。

公开(公告)号：CN109411389A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201810934866.8

申请日：2018-08-16

申请人： 细美事有限公司

发明人： 赵旼熙 ,  刘在赫 ,  吴世勋 ,  金兑根 ,  延蕊林 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 公开涉及一种用于将清洁液供应到基板的装置。清洁液供应单元包括：混合容器，在其内部具有液体混合空间；第一供应构件，其被构造成将第一液体供应到液体混合空间中；第二供应构件，其被构造成将不同于第一液体的第二液体供应到液体混合空间中；以及混合构件，其被构造成将供应到液体混合空间中的第一液体和第二液体进行混合，并且混合构件可包括：循环管线，供在液体混合空间中的液体循环；和压力调节构件，其被构造成向液体提供压力，使得液体混合空间中的液体流入循环管线中，并且被构造成调节压力。