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公开(公告)号：CN100469941C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN03152221.1
申请日：2003-07-31
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: C23C14/5806 , C23C14/165 , C23C14/325 , C23C14/3414 , Y02T50/67
Abstract: 提供了一种保护制品免受高温、氧化环境损害的方法，同时提供了适用于该方法的合金组合物和等离子沉积靶(108)，以及用于这种环境的制品。该方法包括提供一种基质(110)，提供一种等离子沉积靶(108)，并且通过等离子沉积方法，用靶(108)将保护性涂层沉积在基质(110)上。靶(108)包括大约2-大约25原子%的铬，其余为铝。
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公开(公告)号：CN1737187A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510062930.0
申请日：2005-03-30
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: C23C14/165 , C22C21/00 , C23C14/325 , C23C14/3414 , C23C14/345 , C23C14/5806 , Y02T50/67 , Y10T428/1275
Abstract: 公开了一种在高温、氧化环境下保护制品的方法，以及适于在此方法中使用的合金组合物和离子等离子体沉积靶(108)，以及在此环境中使用的制品。此方法包括：提供一种基材(110)，提供一种离子等离子体沉积靶(108)，以及在离子等离子体沉积方法中使用靶(108)将保护涂层沉积至基材(110)上。靶(108)包括约2至25原子％的铬，余量包括铝。
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公开(公告)号：CN112657766B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202011109973.0
申请日：2020-10-16
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 用于维护机器的系统。该系统包括管状体，该管状体包括纵轴线、尖端、限定在该尖端处的分配喷嘴以及与分配喷嘴流动连通的内部通道。管状体构造成柔性的。致动器构造成选择性地改变管状体的取向，并且储存器与内部通道流动连通。储存器构造成将保养流体供应到管状体以从分配喷嘴排放。
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公开(公告)号：CN110382446A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201780087715.7
申请日：2017-10-30
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本文公开了用于在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)的方法和由该方法形成的制品(50)。该方法包括：在硅基衬底(14)上涂覆粘合涂层浆料，干燥硅基衬底上的粘合涂层浆料，形成干粘合涂层(44)，以及在氧化气氛中烧结该干粘合涂层(44)，在硅基衬底(14)上形成烧结粘合涂层(64)。粘合涂层浆料包含粘合涂层流体载体中的粘合涂层修补材料。制品(50)包含硅基衬底(14)、在硅基衬底(14)上形成的烧结粘合涂层(64)以及在烧结粘合涂层(64)上形成的烧结环境屏障涂层(EBC)(66)。烧结粘合涂层(64)包含硅基相和硅基相的氧化物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102758651B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201210143170.6
申请日：2012-04-27
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: F01D25/08 , B81B1/002 , C23C4/02 , C23C4/073 , C23C4/18 , C23C14/028 , C23C14/16 , C23C14/5873 , F01D5/184 , F01D5/187 , F05D2230/10 , F05D2230/90 , F05D2260/202 , F05D2260/203 , Y02T50/672 , Y02T50/676 , Y10T29/49339 , Y10T29/49341 , Y10T83/0304 , Y10T428/13 , Y10T428/24562 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462
Abstract: 本发明涉及构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法。具体而言，提供的是使用多种填充剂来制造涂覆构件(100)的方法。一种方法包括在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132)。每个凹槽均具有基部(134)并至少部分地沿该基底的外表面延伸。该方法还包括将牺牲性填充剂(32)设置在凹槽(多个)内，将永久性填充剂(33)设置在牺牲性填充剂(32)上，将涂层(150)设置在基底的至少一部分和永久性填充剂上，以及从凹槽(多个)去除第一牺牲性填充剂，以限定用于冷却该构件的一个或更多通道(130)。本发明还提供的是一种带有永久性填充剂(33)的构件(100)。
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公开(公告)号：CN101532400B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN200910118437.4
申请日：2009-02-27
Applicant: 通用电气公司
IPC: F01D21/12
CPC classification number: F01D11/001 , C21D2201/01 , C22C19/00 , C22F1/006 , C22F1/10 , F05D2300/505
Abstract: 本发明涉及高温形状记忆合金致动器。具体而言，提供了一种具有致动器主体(201)的高温部件，该致动器主体(201)具有包括形状记忆合金的可致动部分，该形状记忆合金含有镍、铝、铌、钛、钽中的一种或多种和铂系金属。形状记忆合金在预定温度时具有改变的几何形状。致动器主体(201)也能在高温氧化环境下工作并能抵抗高温氧化环境。本发明还公开了用于形成致动器的方法和用于高温控制的方法。
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公开(公告)号：CN102758651A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210143170.6
申请日：2012-04-27
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: F01D25/08 , B81B1/002 , C23C4/02 , C23C4/073 , C23C4/18 , C23C14/028 , C23C14/16 , C23C14/5873 , F01D5/184 , F01D5/187 , F05D2230/10 , F05D2230/90 , F05D2260/202 , F05D2260/203 , Y02T50/672 , Y02T50/676 , Y10T29/49339 , Y10T29/49341 , Y10T83/0304 , Y10T428/13 , Y10T428/24562 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462
Abstract: 本发明涉及构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法。具体而言，提供的是使用多种填充剂来制造涂覆构件(100)的方法。一种方法包括在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132)。每个凹槽均具有基部(134)并至少部分地沿该基底的外表面延伸。该方法还包括将牺牲性填充剂(32)设置在凹槽(多个)内，将永久性填充剂(33)设置在牺牲性填充剂(32)上，将涂层(150)设置在基底的至少一部分和永久性填充剂上，以及从凹槽(多个)去除第一牺牲性填充剂，以限定用于冷却该构件的一个或更多通道(130)。本发明还提供的是一种带有永久性填充剂(33)的构件(100)。
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公开(公告)号：CN102560481A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110436563.1
申请日：2011-12-13
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: F01D5/187 , B23P15/04 , B23P2700/13 , C23C4/01 , C23C4/02 , C23C14/0005 , C23C24/04 , F01D5/186 , F05D2230/31 , F05D2230/313 , F05D2230/90 , F05D2250/12 , F05D2250/13 , Y02T50/67 , Y02T50/672 , Y02T50/676 , Y10T428/13
Abstract: 本发明涉及使用两层式结构涂层来制造构件的方法。提供了一种制造构件的方法。该制造方法包括使第一结构涂层层淀积在衬底的外表面上。衬底具有至少一个空心内部空间。该制造方法进一步包括通过第一结构涂层层而加工衬底，以在第一结构涂层层中限定一个或多个开口，以及在衬底的外表面中形成相应的一个或多个凹槽。各个凹槽均具有相应的基部，并且至少部分地沿着衬底的表面延伸。该制造方法进一步包括使第二结构涂层层淀积在第一结构涂层层上面以及在凹槽(一个或多个)上面，使得凹槽(一个或多个)和第二结构涂层层共同限定一个或多个通道以冷却构件。还公开了一种构件。
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公开(公告)号：CN102536465A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110373807.6
申请日：2011-11-10
Applicant: 通用电气公司
IPC: F02C7/12
CPC classification number: B23P15/04 , B23P2700/13 , F01D5/187 , F01D5/288 , F05D2230/10 , F05D2230/31 , F05D2260/202 , F05D2260/204 , F23M5/08 , F23R2900/03041 , Y02T50/67 , Y02T50/672 , Y02T50/676 , Y02T50/6765
Abstract: 本发明涉及使用短效涂层制作构件的方法。具体而言，提供了一种制作构件的方法。该方法包括将短效涂层沉积在基底表面上，其中基底具有至少一个中空内部空间。该方法还包括穿过短效涂层加工基底以在基底表面中形成一个或多个凹槽。该一个或多个凹槽中的各个均具有基部，且至少部分地沿基底表面延伸。该方法还包括形成穿过该一个或多个凹槽中相应一个凹槽的基部的一个或多个出入孔，以便使相应凹槽与相应中空内部空间成流体连通地连接。该方法还包括用填料填充该一个或多个凹槽，除去短效涂层、将涂层设置在基底表面的至少一部分上，以及从一个或多个凹槽除去填料，使得该一个或多个凹槽和涂层一起限定用于冷却构件的多个通道。
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