公开(公告)号：CN104919370A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201380065161.2

申请日：2013-12-12

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 王晓伟 ,  铃木理人 ,  冈安哲雄 ,  G·鲍洛斯基

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2002 ,  C09D1/00 ,  C09D125/06 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02 ,  C09D165/00 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用该组合物的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于超紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂；以及，一种通过将该组合物涂布于抗蚀层表面并且进行曝光显影而形成图案的方法。该组合物也可进一步包含聚合物。