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公开(公告)号：CN105190441B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201480012592.7
申请日：2014-03-14
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/11 , C08F20/10 , C08G63/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法，该上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光而进行的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。本发明的解决手段是一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的苯并菲衍生物以及溶剂；以及一种方法，其中，通过将该组合物涂布于抗蚀层表面，利用曝光显影而形成图案。该组合物也可进一步包含聚合物。
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公开(公告)号：CN106462073A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025513.0
申请日：2015-05-19
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种上层膜形成用组合物与使用了其的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度和/或图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物、以及将该组合物涂布于抗蚀层表面，通过曝光显影从而形成图案的方法，所述上层膜形成用组合物的特征在于，包含具有芳香族性羟基的芳香族化合物以及水性溶剂。该组合物也可进一步包含粘合剂。
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公开(公告)号：CN105190441A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480012592.7
申请日：2014-03-14
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/11 , C08F20/10 , C08G63/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法，该上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光而进行的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。本发明的解决手段是一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的苯并菲衍生物以及溶剂；以及一种方法，其中，通过将该组合物涂布于抗蚀层表面，利用曝光显影而形成图案。该组合物也可进一步包含聚合物。
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公开(公告)号：CN106462073B
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201580025513.0
申请日：2015-05-19
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种上层膜形成用组合物与使用了其的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度和/或图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物、以及将该组合物涂布于抗蚀层表面，通过曝光显影从而形成图案的方法，所述上层膜形成用组合物的特征在于，包含具有芳香族性羟基的芳香族化合物以及水性溶剂。该组合物也可进一步包含粘合剂。
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公开(公告)号：CN108604070A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780008738.4
申请日：2017-01-25
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/40
CPC classification number: G03F7/405
Abstract: 本发明提供一种涂布性优异的表面处理用组合物，其可提高抗蚀图案的耐热性，且可降低抗蚀图案相对于溶剂的溶解性。另外，本发明提供一种使用该表面处理用组合物的抗蚀图案的表面处理方法、以及使用该表面处理用组合物的抗蚀图案的形成方法。本发明提供一种抗蚀图案的表面处理用组合物，其特征在于，其包含溶剂、以及可溶于前述溶剂的聚硅氧烷化合物，构成前述聚硅氧烷化合物的硅原子与被氮取代的烃基键合，条件是前述硅原子与前述烃基中的碳原子直接结合。本发明还提供一种使用该组合物的表面处理方法，以及一种使用该组合物的抗蚀图案的形成方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108351606A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680066942.7
申请日：2016-11-02
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Inventor： 王晓伟
CPC classification number: G03F7/11 , C08L2201/56 , C09D139/04 , C09D139/08 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/405
Abstract: 本发明涉及一种用于肥化由负型显影光刻工艺制备的抗蚀剂图案的收缩材料组合物，其包含至少一种聚合物和至少一种有机溶剂，其中所述至少一种聚合物包含至少一种氮杂芳环体系的结构单元。
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公开(公告)号：CN109074003B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201780021583.8
申请日：2017-04-03
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 提供了一种间隙填充组合物，其可抑制图案倒塌，以及使用该组合物的图案形成方法。提供了一种间隙填充组合物，其包含间隙填充化合物、有机溶剂以及根据需要的水，该间隙填充化合物具有特定结构，并且在分子内具有多个羟基、羧基或者氨基。提供了一种使用低分子量化合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN104919370B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201380065161.2
申请日：2013-12-12
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2002 , C09D1/00 , C09D125/06 , C09D129/04 , C09D133/02 , C09D165/00 , G03F7/091 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用该组合物的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于超紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂；以及，一种通过将该组合物涂布于抗蚀层表面并且进行曝光显影而形成图案的方法。该组合物也可进一步包含聚合物。
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公开(公告)号：CN109074003A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780021583.8
申请日：2017-04-03
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 提供了一种间隙填充组合物，其可抑制图案倒塌，以及使用该组合物的图案形成方法。提供了一种间隙填充组合物，其包含间隙填充化合物、有机溶剂以及根据需要的水，该间隙填充化合物具有特定结构，并且在分子内具有多个羟基、羧基或者氨基。提供了一种使用低分子量化合物的图案形成方法。
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