-
公开(公告)号：CN110550634B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN201910431751.1
申请日：2019-05-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C01B33/035
Abstract: 本发明提供适合作为单晶硅制造用原料的多晶硅棒。从由西门子法培育出的多晶硅棒中采集晶片(评价试样)，筛选出粒径为100nm以下的大小的晶粒以面积比例计占3％以上的多晶硅棒作为单晶硅制造用原料。使用这种多晶硅棒作为原料并通过FZ法来培育单晶硅时，可显著抑制位错的发生。
-
公开(公告)号：CN119948081A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202380069273.9
申请日：2023-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08G65/332 , C08F290/06 , C08G65/336
Abstract: 本发明的由式(1)表示的新型的含有氟聚醚基的丙烯酸系化合物通过在紫外线、电子束等活性能量射线固化性组合物中添加，从而能够对得到的固化覆膜赋予优异的拒液性、防污性、耐磨损性。#imgabs0#(A为H、F、一价烃基、或‑CH(X‑Y‑Z(Y2‑V)m)2，Rf为二价氟聚醚基，X为单键或二价杂原子，Y为可包含O、N、Si的二价烃基，Z为具有硅氧烷结构的(m+1)价连接基，Y2为单键或Y，V为H、或可包含O、N、S的具有丙烯酰基或α取代丙烯酰基的1价有机基团，在1分子中包含一个以上的丙烯酰基或α取代丙烯酰基。m为1～11)。
-
公开(公告)号：CN115551909B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202180034475.0
申请日：2021-03-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F299/08 , C08K5/14 , C08L83/04 , C08L83/07 , C08K3/01
Abstract: 本发明为一种热固性有机硅组合物，其包含：(A)平均式(1)的有机聚硅氧烷，(SiO2)a1(R13SiO1/2)b1(X1O1/2)c1(1)R1的50～99.9％为甲基且0.1～50％为烯基，X1为氢原子或烷基；(B)平均式(2)的有机聚硅氧烷，(SiO2)a2(R23SiO1/2)b2(X1O1/2)c2(2)R2为不含烯基的烃基，X1为氢原子或烷基；(C)平均式(3)的有机聚硅氧烷，(R32SiO)a3(R33SiO1/2)b3(3)R3的20％以上为甲基且0.0001～25％为烯基；(D)有机过氧化物；及(E)溶剂。由此，提供一种热固性有机硅组合物，其在不添加反应控制剂的情况下未固化时的稳定性优异，提供高硬度的固化物。
-
公开(公告)号：CN119909191A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202411542020.1
申请日：2024-10-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供一种仅散布含有HPMCAS的粉末，且仅通过单一层叠工序就能够被包衣的固体制剂的制造方法。一种在无溶剂条件下被包衣的固体制剂的制造方法，至少包含：预备混合工序，将粉末状的醋酸羟丙基甲基纤维素琥珀酸酯、粉末状的增塑剂和粉末状的湿润剂进行预备混合而得到预备混合物；混合工序，混合所述预备混合物和固体制剂而得到混合物；以及加热工序，通过加热所述混合物而得到被包衣的固体制剂。
-
公开(公告)号：CN113645952B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202080025964.5
申请日：2020-03-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供着色颜料的分散时抑制凝集、抑制化妆料本体中和化妆料涂布膜中的颜料不均、着色颜料的均匀性优异的化妆料。油性混合组合物，其含有：(a)HLB6以下的有机硅系表面活性剂、(b)丙烯酸系‑有机硅系接枝共聚物、(c)25℃下为液体的油剂和(d)着色颜料。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112442267B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202010871018.4
申请日：2020-08-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为聚苯醚树脂组合物和混合物，提供可形成介电特性优异、与铜箔的密合性良好的固化物的聚苯醚树脂组合物。聚苯醚树脂组合物，其特征在于，包含聚苯醚树脂、和由下述结构式(1)和(2)表示的有机硅化合物中的至少一者。#imgabs0#(式中，R1各自独立地表示碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，R2各自独立地表示碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，m各自独立地表示1～3的整数)。
-
公开(公告)号：CN119907830A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202380067770.5
申请日：2023-09-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种加成反应固化型有机聚硅氧烷组合物，其含有：(A)中的(A‑1)1分子中具有与硅原子键合的烯基且不具有(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(A)中的(A‑2)1分子中具有烯基和(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(B)1分子中具有平均2个以上的与硅原子键合的氢原子(Si‑H基)的有机氢聚硅氧烷、和(C)铂族金属系催化剂(其量相对于组合物总量以铂族金属的质量换算计为1～200ppm)。所述加成反应固化型有机聚硅氧烷组合物能够以少的铂族金属系催化剂量进行加成反应固化，能够形成具有与以往同等剥离力的固化覆膜，能够抑制环状低分子硅氧烷量、抑制外观的白浊和经时的分离沉降。
-
公开(公告)号：CN119894995A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202380065228.6
申请日：2023-07-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 樋口浩一
IPC: C09D5/00 , C08F290/06
Abstract: 光固化性涂布组合物，其含有(A)由式(1)表示的有机聚硅氧烷(R1相互独立地表示氢原子、或可介入氧原子等的1价的烃基，X相互独立地表示可介入氧原子等的2价的饱和烃基，Q相互独立地表示可介入氧原子等的(a+1)价的饱和烃基，P相互独立地表示丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，a相互独立地表示2～5的整数，n表示0～100的整数。)、(B)紫外线吸收剂和(C)光聚合引发剂，按不挥发成分换算的(A)成分的含有率为30～99质量％，该光固化性涂布组合物可形成显示优异的耐擦伤性、防水性、防污性并且在室外长期使用时也保持这些特性的覆膜。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN119861530A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411449786.5
申请日：2024-10-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良，会抑制EBR步骤时的隆起，且作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理容忍度优良的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形成方法、图案形成方法及前述有机膜形成用组成物中使用的聚合物。本发明的解决手段是一种有机膜形成用组成物，其特征在于包含(A)有机膜形成用材料、(B)具有下述通式(1)表示的重复单元的聚合物及(C)溶剂，[化1]#imgabs0#式中，W1是具有1个以上的下式(2)表示的含氟结构的碳数2～50的饱和或不饱和的2价有机基团，W2是碳数2～50的饱和或不饱和的2价有机基团。[化2]#imgabs1#
-
公开(公告)号：CN119841753A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411434889.4
申请日：2024-10-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07C25/18 , C07C309/12 , C07C309/75 , C07C309/73 , G03F7/004 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体，其在化学增幅抗蚀剂组成物中使用，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度(EL)、LWR、CDU、焦点深度(DOF)等光刻性能优异，同时于微细图案形成时抗图案崩塌、蚀刻耐性也优良。本发明并提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(a)表示的鎓盐型单体。#imgabs0#
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
6044
records
(took 0.074 seconds)
