石墨电极、电极装置及电极、以及石英玻璃坩埚的制造方法

    公开(公告)号:CN119894836A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202380069459.4

    申请日:2023-09-28

    Inventor: 石原裕 八锹秀

    Abstract: 本发明是一种石墨电极,其在用于制造石英坩埚的电弧放电中使用,其特征在于,所述石墨电极具备石墨电极主体和从所述石墨电极主体突出的连接部,能够经由该连接部与用于向所述石墨电极通电的电极装置连接,所述连接部是通过打入而与所述电极装置连接的形状。由此,本发明提供一种降低加工成本并且能够与现有的石墨电极同样地使用的石墨电极。

    大型中空状多孔质石英玻璃母材和中空状合成石英玻璃筒

    公开(公告)号:CN119461788A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411625772.4

    申请日:2021-07-06

    Abstract: 提供大型中空状多孔质石英玻璃母材和中空状合成石英玻璃筒,即使是外径超过300mm的烟炱体也能够不使生长中产生的离心力等对装置的负载大幅增大地制作烟炱体,即使在以低速旋转制造的情况下也不会对烟炱体产生裂缝、破裂,且容易拔出靶。是通过OVD法制造中空状多孔质石英玻璃母材的方法,基于生长时变动的烟炱体的外径使该烟炱体的转速变动,从而将该烟炱体的旋转圆周速度控制为实际上固定,且在该烟炱体的外径超过250mm的范围,将由γ=S/(L·Nm)[S为燃烧器的移动速度(mm/分钟),L为燃烧器的移动距离(mm),Nm为烟炱体的变动的转速的最低值(rpm)]计算出的频度系数γ设定为0.13≤γ<1.0的范围。

    火焰研磨装置及对石英玻璃管的端部火焰研磨的方法

    公开(公告)号:CN114206790B

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202080054232.9

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本发明提供一种火焰研磨装置,其对圆筒状的石英玻璃管的端部进行火焰研磨,具备:静置台,其将所述石英玻璃管水平静置;以及,火焰研磨用的燃烧器,其能够配置在所述石英玻璃管的端部的圆周的延长线上与所述石英玻璃管的端部的圆周对置的位置,其中,所述燃烧器构成为沿着所述石英玻璃管的端部的圆周进行环绕移动。由此,提供一种火焰研磨装置,其能够对作为处理对象的石英玻璃管的端部均匀地进行火焰研磨处理。

    单晶硅锭提拉用石英玻璃坩埚
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119032203A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202380034926.X

    申请日:2023-04-14

    Inventor: 石原裕

    Abstract: 本发明为一种单晶硅锭提拉用石英玻璃坩埚,其具有由直筒部、R部及底部构成的坩埚形状,并具有由含有气泡的不透明石英玻璃构成的外层、及由透明石英玻璃构成且壁厚为1.5mm以上的内层,所述单晶硅锭提拉用石英玻璃坩埚的特征在于,关于所述内层的距离所述石英玻璃坩埚内表面1mm的位置的Na、K及Li的浓度,Na小于5质量ppb、K小于5质量ppb,且Li小于100质量ppb,关于所述外层的所述R部及所述底部的壁厚方向的Na、K及Li的平均浓度,Na小于10质量ppb、K小于50质量ppb,且Li小于180质量ppb。由此,可提供一种可抑制所提拉的单晶硅锭的针眼的单晶硅锭提拉用石英玻璃坩埚。

    形成有凹窝的二氧化硅玻璃圆板
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115490438A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202210658890.X

    申请日:2022-06-09

    Abstract: 提供能够将热处理中的二氧化硅玻璃圆板的变形量抑制为最小限度、增大二氧化硅玻璃表面的表面积的形成有凹窝的二氧化硅玻璃圆板。二氧化硅玻璃圆板在二氧化硅玻璃体的至少表面或至少背面上具有形成有多个凹窝的凹窝形成区域,且通过所述凹窝形成区域的凹窝有规则地形成。所述凹窝适宜由激光形成。

    石英玻璃的制造方法
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115023411A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202080083942.4

    申请日:2020-12-02

    Abstract: 本发明提供石英玻璃的制造方法,其是使用表面处理液进行石英玻璃的表面处理、在玻璃表面具有凹凸的石英玻璃的制造方法,其中,通过预先使不参与利用上述表面处理液进行的表面处理的溶剂成分与石英玻璃的表面接触,其次,趁着所述溶剂成分没有干燥,进行利用上述表面处理液的表面处理,由此在玻璃表面形成表面粗糙度(Ra)为1.5~3.5μm的凹凸。根据本发明的制造方法,在微裂纹不存在的通过利用表面处理液的表面处理形成凹凸的工序中,能够制造具有表面粗糙度(Ra)为1.5~3.5μm的范围的凹凸的石英玻璃,不需使表面处理液的浓度变化,是比较简便、经济的。

    反射构件及玻璃层合构件的制造方法

    公开(公告)号:CN114364641A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202080061487.8

    申请日:2020-08-17

    Abstract: 本发明是提供一种反射构件,及适合作为该反射构件的玻璃层合构件的制造方法,该反射构件在使用时无粉尘发生,破坏强度大,且一边维持高反射率,一边即使在制作时及使用时的高温环境也可防止破损。具有在不透明二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成透明石英玻璃构件而成的层合构造的反射构件,所述不透明二氧化硅质烧结粉体层的厚度为0.1mm以上,膜厚的分布为±0.05mm以下,在所述层合构造的上表面及下表面的透明石英玻璃构件,以与层合构造平行的方向负上荷重时,破坏的荷重每1cm2为5N以上,所述层合构造在不透明二氧化硅质烧结粉体层与透明石英玻璃构件的边界,成为两者中间的不透明度的半透明度部分的宽度为0.01mm以下。

    单晶硅提拉用石英玻璃坩埚及其制造方法

    公开(公告)号:CN106574394B

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201580041344.X

    申请日:2015-06-01

    Inventor: 马场裕二

    Abstract: 本发明是一种石英玻璃坩埚的制造方法,用于制造石英玻璃坩埚,所述石英玻璃坩埚是用以自其内部所保持的硅融液提拉单晶硅,所述石英玻璃坩埚的制造方法,包含下述步骤:制作石英玻璃坩埚的步骤,所述石英玻璃坩埚具有由含有气泡的不透明石英玻璃所构成的外层和由实质上不含有气泡的透明石英玻璃所构成的内层;对所述制作出来的石英玻璃坩埚的内表面之中的在保持有硅融液时会与该硅融液接触的区域,进行粗面化的步骤;以及,根据对所述内表面经粗面化的石英玻璃坩埚进行热处理,来使所述经粗面化的区域的表面结晶化的步骤。由此,能够制造一种单晶硅提拉用石英玻璃坩埚,其能够在单晶硅提拉时有效地抑制坩埚内表面发生棕环的情况,并抑制单晶硅的结晶性混乱。

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